[实用新型]一种真空腔体法兰密封面处理装置有效
| 申请号: | 201820515762.9 | 申请日: | 2018-04-12 |
| 公开(公告)号: | CN208179159U | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
| 发明(设计)人: | 胡本成;李险峰;邱宏;张山山;刘云南;施佳慧 | 申请(专利权)人: | 中建材光电装备(太仓)有限公司 |
| 主分类号: | B24B7/24 | 分类号: | B24B7/24 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 陈俊 |
| 地址: | 215400 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 打磨板 定位板 砂纸 法兰密封面 旋转连杆 处理装置 真空腔体 轴向 打磨 纹路 本实用新型 表面粗糙度 法兰内腔 人工打磨 由外向内 不一致 阶梯状 连接手 手枪钻 板面 枪钻 转动 配合 | ||
本实用新型公开一种真空腔体法兰密封面处理装置,包括旋转连杆,旋转连杆的一端沿轴向由外向内依次套设有定位板与打磨板,旋转连杆的另一端用于连接手枪钻;所述定位板与打磨板均为圆形,定位板与打磨板构成阶梯状;所述定位板能够与法兰内腔形成配合,定位板与打磨板之间还夹设有砂纸,砂纸与打磨板的板面尺寸相适应,通过打磨板使砂纸能够与法兰密封面形成配合;启动手枪钻后,旋转连杆转动,进而使砂纸旋转对法兰密封面进行打磨,操作十分方便快捷;且打磨时只有轴向的压力,能避免人工打磨造成的纹路不一致、表面粗糙度不符合要求的问题。
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射低辐射镀膜玻璃生产设备技术领域,具体是一种真空腔体法兰密封面处理装置。
背景技术
磁控溅射低辐射镀膜玻璃生产线的设备制造大多数采用密封面与密封槽的结构形式来密封,从而形成一个密封容器。而密封面的处理要求为:纹路一致,与密封圈走向一致,表面粗糙度达Ra0.8,不得有凹坑、异纹等缺陷。
而磁控溅射低辐射镀膜玻璃的真空腔体上有很多法兰的密封面需要打磨处理,如传动站安装座、阀轴安装座,冷井密封面等,一般采用人工修磨的方式,效率较低、一致性差,处理效果不够理想,从而影响到设备安装质量。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种真空腔体法兰密封面处理装置,该装置能够快速方便地对法兰密封面进行打磨,效率高,且能避免人工打磨造成的纹路不一致、表面粗糙度不符合要求的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种真空腔体法兰密封面处理装置,包括旋转连杆,旋转连杆的一端沿轴向由外向内依次套设有定位板与打磨板,旋转连杆的另一端用于连接手枪钻;所述定位板与打磨板均为圆形,定位板与打磨板构成阶梯状;所述定位板能够与法兰内腔形成配合,定位板与打磨板之间还夹设有砂纸,砂纸与打磨板的板面尺寸相适应,通过打磨板使砂纸能够与法兰密封面形成配合。
进一步的,所述打磨板与砂纸之间设有缓冲层,缓冲层采用百洁布。
本实用新型的有益效果是,使用时将旋转连杆连接手枪钻,将定位板嵌入法兰内腔起到定位作用,打磨板将砂纸压在法兰密封面,启动手枪钻后,旋转连杆转动,进而使砂纸旋转对法兰密封面进行打磨,操作十分方便快捷;且打磨时只有轴向的压力,能避免人工打磨造成的纹路不一致、表面粗糙度不符合要求的问题。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的使用示意图;
图3是本实用新型的使用剖视图。
具体实施方式
结合图1~3所示,本实用新型提供一种真空腔体法兰密封面处理装置,包括旋转连杆1,旋转连杆1的一端沿轴向由外向内依次套设有定位板2与打磨板3,旋转连杆1的另一端用于连接手枪钻4;所述定位板2与打磨板3均为圆形,定位板2与打磨板3构成阶梯状;所述定位板2能够与法兰5的内腔形成配合,定位板2与打磨板3之间还夹设有砂纸6,砂纸6与打磨板2的板面尺寸相适应,通过打磨板使砂纸6能够与法兰5的密封面形成配合。作为优选的,所述打磨板3与砂纸6之间设有缓冲层7,缓冲层7采用百洁布。
使用时将旋转连杆1连接手枪钻4,将定位板2嵌入法兰5内腔起到定位作用,打磨板3将砂纸6压在法兰5的密封面,启动手枪钻4后,旋转连杆转动,进而使砂纸旋转对法兰密封面进行打磨,操作十分方便快捷;且打磨时只有轴向的压力,能避免人工打磨造成的纹路不一致、表面粗糙度不符合要求的问题。缓冲层7在打磨时起到缓冲作用,避免周期性的同一个点受力。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制;任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰,均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。
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