[实用新型]均衡上水分流的电镀上子槽有效
申请号: | 201820502027.4 | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN208776856U | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 孙益民;邓琴 | 申请(专利权)人: | 宁波森联光电科技有限公司 |
主分类号: | C25D5/08 | 分类号: | C25D5/08;C25D17/02 |
代理公司: | 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 | 代理人: | 周积德 |
地址: | 315400 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分流 储槽 上水管 均衡 电镀 子槽 转向块 锥形块 镀液 本实用新型 流量调节阀 底部连通 电镀沉积 均衡受力 竖直向上 喷淋管 药水 朝上 镀槽 管孔 伸入 同轴 凸起 水管 延伸 交换 生产 | ||
本实用新型提供了一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中该电镀上子槽由外而内依次包括外子槽和内子槽,所述内子槽由上而下依次包括分流储槽和工作内子槽,所述分流储槽的顶部固定连接有若干竖直向上延伸伸入至所述工作内子槽内并与所述分流储槽相连通的上水喷淋管,所述分流储槽的底部连通有上水管,所述上水管上设有流量调节阀;所述分流储槽内还设有与所述上水管相对应的双向阻力转向块,所述双向阻力转向块包含有一个朝上水管的管孔方向凸起的锥形块,所述锥形块的中心与上水管的位置同轴。该技术方案中镀槽药水能均衡受力提升并且使镀液生产中流速均衡、镀液交换均衡从而产品电镀沉积均衡。
技术领域
本实用新型涉及一种均衡上水分流的电镀上子槽。
背景技术
高速电镀设备是将裸基材金属条带表面镀上一层均匀的锡层,而现有高速电镀上水基本都是一个阀门直接将药水提升到内子槽的电镀设备,个别有内子槽分布上水的也是由工作内子槽底部开上水孔,由底部喷流往上,造成镀层上下不均匀,左右不均匀。该方式常常导致产品上下镀层不均衡,产品在镀液里因为底部上水的冲击力导致产品变形等问题出现。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
有鉴于此,本实用新型目的是提供一种镀槽药水能均衡受力提升并且使镀液生产中流速均衡、镀液交换均衡从而产品电镀沉积均衡的一种均衡上水分流的电镀上子槽。
(二)技术方案
一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中该电镀上子槽由外而内依次包括外子槽和内子槽,所述内子槽由上而下依次包括分流储槽和工作内子槽,所述分流储槽的顶部固定连接有若干竖直向上延伸伸入至所述工作内子槽内并与所述分流储槽相连通的上水喷淋管,所述分流储槽的底部连通有上水管,所述上水管上设有流量调节阀;所述分流储槽内还设有与所述上水管相对应的双向阻力转向块,所述双向阻力转向块包含有一个朝上水管的管孔方向凸起的锥形块,所述锥形块的中心与上水管的位置同轴。
优选地,上述的一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中所述双向阻力转向块和上水管均设置在分流储槽的中心处。
优选地,上述的一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中所述上水喷淋管呈直线排列设置,相邻的上水喷淋管之间的间距相等。
优选地,上述的一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中所述上水喷淋管设置有两排,并分别设置在双向阻力转向块的左右两侧。
优选地,上述的一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中所述外子槽的外部加装设有多处加强筋。
优选地,上述的一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中所述上水喷淋管上分布有若干形状、大小一致的出水孔。
优选地,上述的一种均衡上水分流的电镀上子槽,其中所述锥形块的结构为圆锥形。
(三)有益效果
较现有技术,本实用新型技术效果主要体现在:该技术方案在原有基础上改善为药水经过药水泵通过上水管,流量调节阀进入分流储槽,提升到分流储液槽时由双向阻力转向块将药水均衡的分往两侧,然后由两侧分布的上水喷淋管均衡的输送到工作内子槽,上水喷淋管上面均衡的分布着若干对等的出水孔,药水由上水喷淋管上的出水孔,均匀的对喷到受镀产品表面。其一方面在现有的电镀设备的基础上大大提高的药水流速的均和性,另一方面又因为药水各部位浓度均衡所以降低了生产能耗,此外工作内子槽内因为药水均衡相同,所以电镀产品的差异性得到很好的控制。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图中1为外子槽、2为内子槽、3为上水喷淋管、4为上水管、5 为流量调节阀、6为双向阻力转向块、2.1为分流储槽、2.1为工作内子槽。
具体实施方式
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