[实用新型]一种真空镀膜的雾化装置有效

专利信息
申请号: 201820495683.6 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN208087732U 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 苏文校 申请(专利权)人: 东莞市优上纳米科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 殷齐齐
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 升华炉 控制柜 分解炉 加热片 本实用新型 雾化装置 真空镀膜 加热 等距分布 电性连接 镀膜设备 外壁设置 雾化效果 均匀性 有效地 镀膜 外壁
【说明书】:

实用新型属于镀膜设备技术领域,特别涉及一种真空镀膜的雾化装置,包括机架、升华炉、分解炉和控制柜,升华炉、分解炉和控制柜均设置于机架,控制柜分别与升华炉和分解炉电性连接,升华炉的外壁设置有多个加热片,所述加热片均匀等距分布在所述升华炉的外壁。通过加热片的设置,提高了升华炉的加热的均匀性;而且在控制柜的控制范围内实现了有效地加热,使得本实用新型的雾化效果好,有利于产品镀膜的进行。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备技术领域,特别涉及一种真空镀膜的雾化装置。

背景技术

目前,传统的真空镀膜的雾化装置均包括升华炉和分解炉,通过升华炉对镀膜材料进行加热,然后进入分解炉内进行分解雾化,最后雾化的镀膜材料会进入涂膜室进行镀膜,从而实现了产品的镀膜。但是传统的雾化装置的升华炉存在加热不均匀的情况,从而影响受热镀膜材料的雾化。

实用新型内容

本实用新型的目的在于:针对现有技术的不足,而提供一种真空镀膜的雾化装置,该雾化装置的升华炉的外壁设置有加热片,提高了升华炉的加热均匀性。

为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

本实用新型提供一种真空镀膜的雾化装置,包括机架、升华炉、分解炉和控制柜,所述升华炉、所述分解炉和所述控制柜均设置于所述机架上,所述控制柜分别与所述升华炉和所述分解炉电性连接,所述升华炉的外壁设置有多个加热片,所述加热片均匀等距分布在所述升华炉的外壁。

优选地,所述升华炉包括升华炉腔、进料口和出料口,所述进料口和所述出料口设置于所述升华炉腔的两端。

优选地,所述升华炉还包括锁紧装置,多个所述加热片均通过所述锁紧装置均匀地固定于所述升华炉腔的外壁。

优选地,所述进料口密封连接有密封盖。

优选地,所述出料口密封连接有真空通道,所述真空通道穿过于所述分解炉的内部与真空镀膜室连接。

优选地,所述机架的底部设置有移动轮。

本实用新型的有益效果在于:本实用新型包括机架、升华炉、分解炉和控制柜,升华炉、分解炉和控制柜均设置于机架,控制柜分别与升华炉和分解炉电性连接,升华炉的外壁设置有多个加热片。通过加热片的设置,提高了升华炉的加热的均匀性;而且在控制柜的控制范围内实现了有效地加热,使得本实用新型的雾化效果好,有利于产品镀膜的进行。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型中升华炉的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施方式和说明书附图,对本实用新型作进一步详细的描述,但本实用新型的实施方式不限于此。

如图1和图2所示,一种真空镀膜的雾化装置,包括机架1、升华炉2、分解炉3和控制柜4,升华炉2、分解炉3和控制柜4均设置于机架1上,控制柜4分别与升华炉2和分解炉3电性连接,升华炉2的外壁设置有多个加热片5,所述加热片5均匀等距分布在所述升华炉2的外壁,通过多个加热片5同时对升华炉2加热,实现了瞬间加热和均匀加热。

升华炉2包括升华炉腔6、进料口7和出料口8,进料口7和出料口8设置于升华炉腔6的两端;镀膜原料是通过进料口7装入的,进料口7密封连接有密封盖9,通过密封盖9对进料口7进行密封,便于升华炉2的工作。出料口8密封连接有真空通道10,真空通道10穿过于分解炉3的内部与真空镀膜室连接,镀膜原料通过真空通道10流入真空镀膜室内,从而使实现了产品的镀膜。升华炉2还包括锁紧装置11,多个加热片5均通过锁紧装置11均匀地固定于升华炉腔6的外壁,然后再通过控制柜4控制多个加热片5的工作。

机架1的底部设置有移动轮12,从而实现了机架1的移动。

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