[实用新型]一种高温环境下的精密温控装置有效
申请号: | 201820487984.4 | 申请日: | 2018-04-08 |
公开(公告)号: | CN207965695U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 赵玉倩;叶一东;张秀芳;吴权;李小青;冯新;高旭;张帆;崔家珮 | 申请(专利权)人: | 北京华宇德信光电技术有限公司 |
主分类号: | G05D23/22 | 分类号: | G05D23/22 |
代理公司: | 北京金蓄专利代理有限公司 11544 | 代理人: | 赵敏 |
地址: | 100192 北京市海淀区西小口路6*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 精密温控装置 高温环境 半导体制冷片 散热翅片组 均温板 散热源 风扇 底面 本实用新型 散热面积大 散热器翅片 有效地控制 彼此分离 产品使用 工作区间 固定相连 散热翅片 温度稳定 轴流风扇 激光器 散热量 上表面 体积小 控温 热面 制热 电子产品 制冷 申请 | ||
本实用新型公开了一种高温环境下的精密温控装置,该装置包括均温板,所述均温板上表面固定连接有彼此分离的第一散热翅片组以及第二散热翅片组;所述第一散热翅片组上设置有轴流风扇;半导体制冷片,所述半导体制冷片的热面与所述均温板底面固定相连;本申请提供的高温环境下的精密温控装置,使用半导体制冷片制冷制热,控温精度高;使用的散热器翅片薄间距小,散热面积大,风扇的转速快,风扇结合底面及散热翅片的结构,体积小散热量大;适用于电子产品、激光器等产品使用的高温环境下精密温控装置,该装置可有效地控制散热源的温度在‑45℃~60℃的环境温度范围下,将散热源温度稳定在一定工作区间内,具有小型高效等优点。
技术领域
本实用新型涉及温度控制设备技术领域,特别是涉及一种高温环境下的精密温控装置。
背景技术
半导体制冷常用于红外探测器、激光器等光电器件的冷却,而光电器件使用的环境条件和运行平台通常非常苛刻,电子器件、激光器等的体积、重量、功耗便受到十分严格的限制,一般风冷散热器的体积和重量比较大,难以实现小型化、紧凑化,半导体制冷片的能效比低,功耗大。常用的温控装置在常温范围下有很好的控温能力和精度,但在低温-45℃或高温60℃下,并不能将热源温度稳定在一定工作区间内,影响热源工作机能。
实用新型内容
本实用新型提供了一种高温环境下的精密温控装置。电子产品、激光器等产品使用的高温环境下精密温控装置,该装置可有效地控制散热源的温度在-45℃~60℃的环境温度范围下,将散热源温度稳定在一定工作区间内,具有小型高效等优点。
本实用新型提供了如下方案:
一种高温环境下的精密温控装置,包括:
均温板,所述均温板上表面固定连接有彼此分离的第一散热翅片组以及第二散热翅片组;所述第一散热翅片组上设置有轴流风扇;
半导体制冷片,所述半导体制冷片的热面与所述均温板底面固定相连;所述半导体制冷片的冷面与散热源通过0.3~0.7毫米厚的导热垫片固定相连;
热电偶,所述热电偶与所述均温板底部固定相连;
控制组件,所述轴流风扇、半导体制冷片以及热电偶分别与所述控制组件电连接;所述控制组件用于根据接收到的通过所述热电偶获取的所述散热源的温度值,控制所述轴流风扇以及半导体制冷片的工作状态。
优选的:所述散热源底部粘贴有0.8~1.2毫米厚的二氧化钒薄膜。
优选的:所述第一散热翅片组与所述第二散热翅片组之间的间隙距离为3~6毫米,且在横向上是交错分布。
优选的:所述第二散热翅片组上安装有导流板。
优选的:所述散热源上连接有陶瓷加热片,所述陶瓷加热片与所述控制组件电连接。
根据本实用新型提供的具体实施例,本实用新型公开了以下技术效果:
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