[实用新型]一种FPC超大曝光台面斜立式升降台有效
申请号: | 201820451980.0 | 申请日: | 2018-04-01 |
公开(公告)号: | CN208334904U | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 石利 | 申请(专利权)人: | 无锡旭电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 | 代理人: | 赵华 |
地址: | 214000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 平台支架 升降装置 上支撑块 升降驱动 下支撑块 导向轴 斜立式 曝光台面 上台面 下支架 导轨 滑块 升降台 生胶 本实用新型 精准控制 平台升降 平稳升降 升降机构 点支撑 曝光台 上表面 内嵌 升降 配合 生产 | ||
本实用新型的目的在于实现FPC超大曝光台面的平稳升降;提供一种FPC超大曝光台面斜立式升降台,包括平台,升降装置,导向轴,升降驱动,平台支架;所述平台支架还包括上台面和下支架;所述平台支架的上表面水平放置有所述平台;所述升降装置和导向轴设置在所述上台面和下支架之间;所述升降驱动设置在所述平台支架的一侧;所述升降驱动与所述升降装置与所述导向轴连接;所述升降装置还包括上支撑块,下支撑块,滑块,导轨;所述上支撑块与下支撑块相互配合;所述滑块固定在所述上支撑块上;所述导轨内嵌在所述下支撑块上。本实用新型采用斜立式升降机构,通过六点支撑,平台升降更平稳;平台生胶高度可以精准控制,产品的生产精度更高。
技术领域
本实用新型涉及升降台领域,尤其涉及一种FPC超大曝光台面斜立式升降台。
背景技术
曝光机即电子束曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。
UV曝光机是现代制造印刷线路板PCB必不可少的设备,印制电路板制造工艺中,最关键的工序之一就是将底片图像转移到敷铜箔基材上。先在基板上涂覆一层感光材料(如液态感光胶、光敏抗蚀干膜等),然后对涂覆在基材上的光敏性物质进行光辐射,使其溶解性发生变化,未感光部分的树脂没有聚合,在显影液作用下溶解,感光部分的树脂留在基材上形成图像,这一工艺过程即是曝光,也就是印制电路板生产中由曝光机完成的工序。
已公开中国实用新型专利,公开号:CN202339476U,专利名称:曝光机自动找平升降装置,申请日:20111125,其公开了一种曝光机自动找平升降装置,包括曝光台和上铬板,其中,所述曝光台的四角处分别设有接触式检测探头和升降调整装置,所述接触式检测探头和位置检测器相连,所述升降调整装置通过直线导轨和马达相连,所述马达通过丝杆、丝杠螺母和曝光台相连。本实用新型提供的曝光机自动找平升降装置,通过在曝光台的四角处分别设置接触式检测探头,四个升降调整装置通过直线导轨和马达相连控制曝光台的Z轴升降,从而灵活设定曝光间隙,保证曝光台各点与上铬板间隙一致。
现阶段,在曝光过程中,曝光平台的升降多使用传统的垂直驱动升降,而传统的垂直驱动升降平台的缺点也很明显,比如机构涉及复杂,尤其是针对FPC 超大曝光平台而言,垂直驱动升降容易造成平台不稳,升降精度不够的问题,升降高度误差大,因此提供本实用新型来解决上述问题。
发明内容
本实用新型的目的在于实现FPC超大曝光台面的平稳升降。
本实用新型提供一种FPC超大曝光台面斜立式升降台,包括平台1,升降装置2,导向轴3,升降驱动4,平台支架5;
其特征在于,
所述平台支架5还包括上台面51和下支架52;
所述平台支架5的上表面水平放置有所述平台1;所述升降装置2设置在所述上台面51和下支架52之间;所述导向轴3设置在所述上台面51和下支架52 之间;所述升降驱动4设置在所述平台支架5的一侧;所述升降驱动4与所述升降装置2连接;所述升降驱动4与所述导向轴3连接;
所述升降装置2还包括上支撑块21,下支撑块22,滑块23,导轨24;
所述上支撑块21与下支撑块22相互配合;所述滑块23固定在所述上支撑块21上;所述导轨24内嵌在所述下支撑块22上。
优选的,所述上支撑块21与下支撑块22的接触面为斜面。
优选的,所述滑块23与所述导轨24为直线形。
优选的,所述滑块23的截面为“工”字形;所述导轨24的截面为与所述滑块23相配合的“工”字形。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡旭电科技有限公司,未经无锡旭电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820451980.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。