[实用新型]光电阴极及X射线诊断系统有效
| 申请号： | 201820409282.4 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN208173546U | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 王瑜英;曹柱荣;高聪;徐习斌;高扬;王雪敏;王建军;景峰 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | H01J1/34 | 分类号： | H01J1/34 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 王文红 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层反射膜 光电阴极 入射 光电子 反射 本实用新型 环境适应性 纳米结构 基底 射出 光源 诊断 | ||
1.一种光电阴极，其特征在于，所述光电阴极包括X射线多层反射膜及设置在所述X射线多层反射膜表面上的金，
所述X射线多层反射膜作为所述光电阴极的基底，所述金为纳米结构；
所述X射线多层反射膜用于将入射至所述X射线多层反射膜表面上的X射线进行反射；
所述金用于在X射线入射至所述金的表面后产生光电子，以进行X射线的诊断，其中，入射至所述金的表面的X射线包括光源直接射出的X射线及所述X射线多层反射膜反射的X射线。
2.根据权利要求1所述的光电阴极，其特征在于，所述纳米结构包括纳米颗粒、纳米球壳中任一种及其组合。
3.根据权利要求1所述的光电阴极，其特征在于，所述金均匀设置在所述X射线多层反射膜表面。
4.根据权利要求1所述的光电阴极，其特征在于，所述金通过涂覆、沉积或化学方法中任一种方式设置在所述X射线多层反射膜表面。
5.根据权利要求1所述的光电阴极，其特征在于，所述X射线多层反射膜用于反射预设波长范围内的X射线。
6.一种X射线诊断系统，其特征在于，所述系统包括光源及条纹相机，所述条纹相机包括光电阴极，
所述光源用于发射X射线；
所述光电阴极包括X射线多层反射膜及设置在所述X射线多层反射膜表面上的金，
所述X射线多层反射膜作为所述光电阴极的基底，所述金为纳米结构；
所述X射线多层反射膜用于将入射至所述X射线多层反射膜表面上的X射线进行反射；
所述金用于在X射线入射至所述金的表面后产生光电子，以进行X射线的诊断，其中，入射至所述金的表面的X射线包括光源直接射出的X射线及所述X射线多层反射膜反射的X射线；
所述条纹相机用于对所述光电阴极在被X射线穿透后产生的光电子进行分析，实现对X射线的诊断。
7.根据权利要求6所述的X射线诊断系统，其特征在于，所述纳米结构包括纳米颗粒、纳米球壳中任一种及其组合。
8.根据权利要求6所述的X射线诊断系统，其特征在于，所述金均匀设置在所述X射线多层反射膜表面。
9.根据权利要求6所述的X射线诊断系统，其特征在于，所述金通过涂覆、沉积或化学方法中任一种方式设置在所述X射线多层反射膜表面。
10.根据权利要求6所述的X射线诊断系统，其特征在于，所述X射线多层反射膜用于反射预设波长范围内的X射线。
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