[实用新型]小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃

权利要求书

1.一种小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，包括相对设置的第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃基片与所述第二玻璃基片的两端部之间设置有用于使所述第一玻璃基片与所述第二玻璃基片连接固定的粘接结构，且所述第一玻璃基片、所述第二玻璃基片与所述粘接结构共同围设形成气体间隔层，所述第一玻璃基片朝向所述第二玻璃基片的内表面覆盖固定有低辐射膜层，所述低辐射膜层包括依序叠设的第一TiO_X膜层、第一ZnAlO_X膜层、第一Ag膜层、第一Ti膜层、第二ZnAlO_X膜层、第二Ag膜层、第二Ti膜层、第三ZnAlO_X膜层、第三Ag膜层、第三Ti膜层、Si₃N₄膜层以及第二TiO_X膜层，所述第一TiO_X膜层覆盖固定于所述第一玻璃基片的内表面。

2.根据权利要求1所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层采用离线真空磁控阴极溅射沉积工艺覆盖固定于所述第一玻璃基片的内表面。

3.根据权利要求1所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述第一TiO_X膜层的厚度为15nm～20nm，所述第一ZnAlO_X膜层的厚度为15nm～20nm，所述第一Ag膜层的厚度为4nm～8nm，所述第一Ti膜层的厚度为1nm～3nm，所述第二ZnAlO_X膜层的厚度为60nm～70nm，所述第二Ag膜层的厚度为14nm～18nm，所述第二Ti膜层的厚度为1nm～3nm，所述第三ZnAlO_X膜层的厚度为70nm～80nm，所述第三Ag膜层的厚度为10nm～14nm，所述第三Ti膜层的厚度为1nm～3nm，所述Si₃N₄膜层的厚度为15nm～20nm，所述第二TiO_X膜层的厚度为15nm～20nm。

4.根据权利要求1所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述粘接结构包括间隔铝条和丁基胶，所述间隔铝条的相对的两侧均通过所述丁基胶分别与所述第一玻璃基片和所述第二玻璃基片粘接。

5.根据权利要求4所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述粘接结构还包括结构胶，所述结构胶填充于所述第一玻璃基片与所述间隔铝条之间及所述第二玻璃基片与所述间隔铝条之间。

6.根据权利要求5所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述结构胶为硅酮结构胶。

7.根据权利要求1所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述气体间隔层为空气层或者惰性气体层。

8.根据权利要求7所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述惰性气体为氩气。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述第一玻璃基片和所述第二玻璃基片均由至少两片玻璃基片叠加制成。

10.根据权利要求1～8中任一项所述的小角度不偏色的三银镀膜中空玻璃，其特征在于，所述第一玻璃基片和所述第二玻璃基片均为浮法玻璃。