[实用新型]一种去杂光的透镜装置有效

专利信息
申请号: 201820394435.2 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN207975601U 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 廖彩明;邓涛;余定辉 申请(专利权)人: 深圳市永明亮光电科技有限公司
主分类号: F21V5/04 分类号: F21V5/04;F21Y115/10
代理公司: 北京易正达专利代理有限公司 11518 代理人: 赵白
地址: 518104 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 主出光面 透镜体 光学反射面 透镜装置 去杂 圆锥 凹面 底面 内陷 本实用新型 尖锥形结构 圆锥形透镜 杂散光消除 光斑 凹槽凸面 圆形凹槽 光作用 外凸起 正平面 锥形面 凸面 圆面 同心 侧面 清晰
【权利要求书】:

1.一种去杂光的透镜装置,其特征在于,所述透镜装置为类圆锥形透镜体,所述透镜体包括主出光面和光学反射面;所述透镜体正平面的中心内陷形成一圆形凹槽形成凹槽凹面和凹槽凸面,所述凹槽凹面为第一主出光面,所述透镜体凸面为第二主出光面,所述第一主出光面和第二主出光面为同心圆面;所述透镜体的圆锥面的底部内陷形成一出光凹槽,所述出光凹槽的底面为中心向外凸起的锥形面,所述出光凹槽的底面为第一光学反射面,所述透镜体的圆锥面的侧面为第二光学反射面,所述第一主出光面、第二主出光面、第一光学反射面和/或第二光学反射面用于消散LED灯照射出的杂散光斑。

2.根据权利要求1所述的去杂光的透镜装置,其特征在于,所述第一主出光面为高光亮平面,所述第二主出光面为阵列排布的驻点透镜平面。

3.根据权利要求1所述的去杂光的透镜装置,其特征在于,所述第一光学反射面为磨砂锥形面,所述第二光学反射面为高光亮锥形面。

4.根据权利要求1所述的去杂光的透镜装置,其特征在于,所述第一光学反射面采用晒纹工艺。

5.根据权利要求1所述的去杂光的透镜装置,其特征在于,所述第一主出光面的中心和所述第一光学反射面的中心在一竖直线上。

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