[实用新型]能够实现电加热的镀膜层、包含其的镀膜玻璃、电加热玻璃

说明书

本实用新型涉及一种能够实现电加热的镀膜层、包含其的镀膜玻璃、电加热玻璃，所述能够实现电加热的镀膜层，所述镀膜层包括设置于最外层的电阻调节层，所述电阻调节层包括掺氟二氧化锡层和设置于所述掺氟二氧化锡层外侧的第二二氧化硅层。本实用新型提供的电加热的镀膜层，第二二氧化硅层能够将镀膜层的电阻基数提高，之后通过设置掺氟二氧化锡层将电阻调节至合适的范围。

技术领域

本实用新型属于玻璃制备技术领域，尤其涉及一种能够实现电加热的镀膜层、包含其的镀膜玻璃、电加热玻璃。

背景技术

Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。

玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。然而，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。Low-E玻璃就可以起到隔热、透光的效果。

现有在线镀膜玻璃生产工艺以制备低电阻的Low-e玻璃(低辐射玻璃)为主，因为电阻越低表示其辐射率越低，节能效果越好。在膜层结构上，也是将直接影响电阻高低的氟掺杂二氧化锡膜层放到外层(远离玻璃侧)，这样可以将电阻降到最低，得到最好的Low-e节能效果。

而当玻璃置于两侧具有温差的环境中时，由于温差造成表面起雾，为了解决这一问题，通过通电加热玻璃实现对凝霜凝露的主动控制，减少起雾的效果。但是当氟掺杂二氧化锡膜层在顶层时，方块电阻正常在12Ω左右，即使我们通过HF掺杂量进行优化，也无法使钢化前方块电阻达到70Ω以上。而且氟掺杂二氧化锡膜层放在顶层时，Haze(雾度)一般在1％左右，这不仅会加强结霜结垢也会在视觉上给人朦胧的感观。

因此，本领域需要开发一种能够减少凝霜凝露的膜层，其能够通电加热，降低起雾现象；同时还要Haze(雾度)低，避免对视觉造成影响。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的之一在于提供一种能够实现电加热的镀膜层，所述镀膜层包括设置于最外层的电阻调节层，所述电阻调节层包括掺氟二氧化锡层和设置于所述掺氟二氧化锡层外侧的第二二氧化硅层。

本实用新型提供的电加热的镀膜层，第二二氧化硅层能够将镀膜层的电阻基数提高，之后通过设置掺氟二氧化锡层将电阻调节至合适的范围。

优选地，所述第二二氧化硅层的厚度为13～18nm，例如14nm、15nm、16nm、 17nm等。

优选地，所述掺氟二氧化锡层中氟原子和锡原子的摩尔比不做具体限定，任何一种掺氟二氧化锡层均可以实现发明目的。作为优选地方案，掺氟二氧化锡层中氟原子和锡原子的摩尔比为1:5～1:25，但这并不能够说明其他的氟掺杂量不能够实现发明目的。

优选地，所述掺氟二氧化锡层的厚度为120～220nm，例如130nm、150nm、 170nm、190nm、200nm等，优选160nm。

优选地，所述镀膜层还包括依次设置于电阻调节层内侧的第一二氧化硅层和二氧化锡层。

优选地，所述第一二氧化硅层厚度为18～24nm，例如19nm、20nm、21nm、 22nm、23nm等。

优选地，所述二氧化锡层厚度为20～30nm，例如21nm、22nm、23nm、24nm、 25nm、26nm、27nm、28nm、29nm等。

本实用新型目的之二是提供一种镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和镀制在所述玻璃基板上的如目的之一所述的能够实现电加热的镀膜层。