[实用新型]一种工件转动架及纳米材料制作设备

说明书

一种工件转动架，包括驱动装置、转轴、轴承套、转盘、若干夹具柱、挡块、内圈弧形条及外圈弧形条，通过在夹具柱的末端设置挡块，在转盘下方的壳体上设置内圈弧形条及外圈弧形条，挡块与内圈弧形条及外圈弧形条接触时将产生一定角度的偏转，从而调节工件的角度，提高了镀膜效果。本实用新型还提供一种具有上述工件转动架的纳米材料制作设备。

技术领域

本实用新型涉及纳米材料制作领域，特别是一种工件转动架及纳米材料制作设备。

背景技术

溅射法制作纳米材料的方式有：磁控溅射、偏压溅射及反应溅射等。其中磁控溅射的原理为：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动。

磁控溅射制作纳米材料可用来对放置在夹具上的工件进行镀膜，夹具设置于转盘上，夹具、工件与转盘一起放置于真空室中，镀膜时转盘带动夹具及工件一起缓慢转动，从而对工件实现全方位的镀膜。工件随转盘一起转动时，当其转动到朝向且靠近靶材时，其镀膜效果最佳，而转动到远离靶材时，其镀膜效果最差；由于工件可能存在凹槽、弧形面或其他不规则形状，即使工件朝向且靠近靶材，在这些凹槽、弧形面或其他不规则形状的部位也可能存在镀膜效果不佳的情况。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种调整工件角度、提高镀膜效果的工件转动架及纳米材料制作设备，以解决上述问题。

一种工件转动架，部分地位于壳体中，包括驱动装置、转轴、轴承套、转盘、若干夹具柱、挡块、内圈弧形条及外圈弧形条，所述转轴的第一端与同步带轮同轴心连接，第二端与转盘同轴心连接，所述转盘沿周向且靠近圆周的位置设有若干通孔，夹具柱的第一端穿过转盘的通孔，所述挡块设置于夹具柱穿过通孔的一端，所述内圈弧形条及外圈弧形条设置于转盘下方的壳体上，所述内圈弧形条及外圈弧形条的形状均为弧形，且外圈弧形条的半径大于内圈弧形条的半径，所述挡块的长度大于内圈弧形条与外圈弧形条的半径之差。

进一步地，所述驱动机构包括电机、传动带及同步带轮，所述电机通过传动带与同步带轮连接。

进一步地，所述转盘的中心设有限位孔，限位孔中设有限位凹槽，转轴的第二端的外壁沿轴向设有限位凸条，转轴的第二端穿过转盘的限位孔，且转轴的限位凸条与限位孔的限位凹槽配合。

进一步地，所述内圈弧形条远离转盘的侧面上设有若干第一连接件，所述外圈弧形条远离转盘的侧面上设有若干第二连接件，内圈弧形条及外圈弧形条分别通过第一连接件及第二连接件与壳体连接。

进一步地，所述内圈弧形条的至少一端的外侧设有第一斜坡，所述外圈弧形条的至少一端的内侧设有第二斜坡。

进一步地，所述夹具柱穿过通孔的一端的外侧设有转座，转座与转盘固定连接，转座的中部设有开口，转座上设有安装块，在安装块与挡块之间设有两个弹簧，两个弹簧分别位于夹具柱的两侧。

进一步地，所述内圈弧形条及外圈弧形条的数量均为一个，且内圈弧形条及外圈弧形条的弧度均为160-180度。

进一步地，所述内圈弧形条及外圈弧形条的数量均为两个，且内圈弧形条与外圈弧形条间隔设置。

进一步地，每一内圈弧形条或外圈弧形条的弧度均为70-90度。

一种纳米材料制作设备，具有如上所述的工件转动架。

与现有技术相比，本实用新型的工件转动架及纳米材料制作设备通过在夹具柱的末端设置挡块，在转盘下方的壳体上设置内圈弧形条及外圈弧形条，挡块与内圈弧形条及外圈弧形条接触时将产生一定角度的偏转，从而调节工件的角度，提高了镀膜效果。