[实用新型]真空多弧涂覆设备

说明书

本实用新型涉及一种真空多弧涂覆设备，包括真空室、与真空室连接的真空抽气系统以及设于真空室内的传送装置，所述真空室上设有至少一个弧源组，每个弧源组设有多个弧源，所述弧源组为至少两个时，各弧源组依次间隔排列；所述传送装置上设有用于放置钕铁硼永磁体的支撑体，钕铁硼永磁体表面涂覆时，传送装置通过支撑体带动钕铁硼永磁体做水平往复运动。本实用新型能够控制钕铁硼永磁体的升温，增加钕铁硼永磁体磁性能的稳定性，提高生产效率，降低生产成本。

技术领域

本实用新型属于永磁体涂覆技术领域，涉及永磁体涂覆设备，具体地说，涉及一种用于重稀土扩散法制作烧结钕铁硼永磁体的真空多弧涂覆设备。

背景技术

钕铁硼永磁体由于具有高矫顽力和高磁能积等特性，在新能源电动汽车、风力发电永磁电机、永磁电梯曳引机、节能家电永磁变频电机、空心杯永磁微电机、无人机等许多领域用来制作永磁电机，实现降低能耗的目的。为了确保钕铁硼永磁体的高矫顽力和高磁能积，钕铁硼永磁体的传统制作工艺需要使用大量的重稀土例如镝、铽等稀土金属，而镝、铽价格昂贵，因此大幅度提高了钕铁硼永磁体的制作成本。

近年来，已经开发出利用重稀土晶界扩散方法减少镝或铽的使用量，并提高钕铁硼永磁体的内禀矫顽力(简称Hcj)。这种重稀土晶界扩散方法首先需要把镝或铽涂覆在钕铁硼永磁体表面上，之后再把表面上的镝或铽沿着钕铁硼永磁体的晶界渗透到钕铁硼永磁体中。在将镝或铽涂覆在钕铁硼永磁体表面上的方法中，真空多弧方式与其他涂覆方式(如：浸涂、滚涂、喷涂、刷涂、蒸镀涂覆、溅射镀涂覆等)相比，涂覆层的均匀性、结合力不仅能够保障产品的一致性和稳定性，且生产效率高、生产成本低。但配套于真空多弧涂覆方式的真空多弧涂覆设备存在以下不足：真空多弧涂覆方式要求涂覆层厚度达5-40um，而通常使用涂覆设备对钕铁硼永磁体表面涂覆镝或铽时，在满足涂覆层各种质量要求的前提下，单个靶极的沉积速率低，涂覆厚度达到5um需要长时间连续涂制，达到40um则需要更长时间连续涂制，易导致涂覆室温升过高，且生产效率低。为了保证钕铁硼永磁体的生产量，通常采取在涂覆室内配置多个多弧源组解决，但同样存在长时间连续涂制导致涂覆室温升过高的问题。涂覆室温升过高有两方面影响：一方面会影响涂覆层与钕铁硼永磁体的结合力，导致重稀土扩散后的钕铁硼永磁体的磁性不稳定；另一方面钕铁硼永磁体本身的畴壁发生变化从而导致磁性能降低。为了既能保证生产量，又能解决温升问题，现有设备通常采用的手段是把涂覆过程应需的工艺时间分段进行，并且在设备的配置上设置了专门的冷却室强制降温。例如，需要连续涂制60分钟时，在涂覆15分钟后就从涂覆室转至冷却室进行冷却，然后从冷却室出料，返回入料至涂覆室继续涂覆15分钟，之后依然经过冷却，如此循环多次完成涂制。这种方式既增加了生产复杂性，还需要专设冷却室，导致用于获得真空的真空机组相应的配置增多，且耗电量高，增加了生产时的生产成本。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术存在的生产效率低、涂覆室温升过高导致的产品磁性能稳定性差等上述问题，提供了一种真空多弧涂覆设备，该设备能够控制永磁体的升温，增加永磁体磁性能的稳定性，提高生产效率，降低生产成本。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种真空多弧涂覆设备，包括真空室、与真空室连接的真空抽气系统以及设于真空室内的传送装置，所述真空室上设有至少一个弧源组，每个弧源组设有多个弧源，所述弧源组为至少两个时，各弧源组依次间隔排列；所述传送装置上设有用于放置钕铁硼永磁体的支撑体，钕铁硼永磁体表面涂覆时，传送装置通过支撑体带动钕铁硼永磁体做水平往复运动。

优选的，所述弧源组设置有至少三个时，各个弧源组依次等距间隔排列。

优选的，所述支撑体为一体式结构。

优选的，所述支撑体为分体式结构，且分体的数量与弧源组的数量相同。

优选的，所述真空室为真空涂覆室。