[实用新型]反应腔室部件结构及反应腔室有效
| 申请号： | 201820317132.0 | 申请日： | 2018-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN208580713U | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李一成;彭宇霖;曹永友 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C25D11/08;C25D11/10 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应腔室部件 本实用新型 部件本体 反应腔室 氧化膜层 铝合金材料 使用寿命 | ||
【权利要求书】：
1.一种反应腔室部件结构，其特征在于，包括部件本体和氧化膜层，其中：
所述部件本体采用5系铝合金材料制成；
所述氧化膜层通过部件本体氧化形成。
2.根据权利要求1所述的反应腔室部件结构，其特征在于，
在所述氧化膜层上形成有陶瓷层。
3.根据权利要求2所述的反应腔室部件结构，其特征在于，
所述氧化膜层表面具有预设粗糙度。
4.根据权利要求3所述的反应腔室部件结构，其特征在于，所述预设粗糙度的范围在3.2μm～6.3μm。
5.根据权利要求1所述的反应腔室部件结构，其特征在于，所述氧化膜层的厚度范围在50μm～60μm。
6.根据权利要求2所述的反应腔室部件结构，其特征在于，所述陶瓷层包括：氧化钇或者氧化锆。
7.根据权利要求2所述的反应腔室部件结构，其特征在于，所述陶瓷层的厚度范围在50μm～200μm。
8.一种反应腔室，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的反应腔室部件结构。
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