[实用新型]一种高延低峰值铜箔铜箔后处理系统中硅溶液回收装置

权利要求书

1.一种高延低峰值铜箔铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，包括支撑脚（1），其特征在于：所述支撑脚（1）的上表面固定连接有回收箱体（2），所述回收箱体（2）的上表面固定连接有支撑板（3），所述支撑板（3）的表面开设有圆孔（4），所述圆孔（4）的内壁通过轴承固定连接有转轴（5），所述转轴（5）的一端固定连接有转盘（6），所述支撑板（3）的表面固定连接有连接杆（7），所述连接杆（7）的表面套接有活动板（8），所述活动板（8）的表面开设有第一活动槽（9），所述转盘（6）的表面固定连接有限位杆（21），所述限位杆（21）的表面与第一活动槽（9）的内壁滑动连接，所述活动板（8）的一端固定连接有加长杆（10），所述加长杆（10）的一端固定连接有主动连接板（22），所述主动连接板（22）的表面开设有主动齿轮槽（11），所述回收箱体（2）的表面开设有滑动槽（12），所述滑动槽（12）的内壁滑动连接有固定杆（13），所述固定杆（13）的一端固定连接有从动连接板（14），所述从动连接板（14）的表面开设有从动齿轮槽（15），所述主动齿轮槽（11）与从动齿轮槽（15）啮合，所述回收箱体（2）的内壁分别开设有第二活动槽（16）和第三活动槽（17），所述第二活动槽（16）和第三活动槽（17）的内壁均滑动连接有安装框（18），所述安装框（18）的表面与固定杆（13）的一端固定连接，所述安装框（18）的内侧固定连接有过滤网（19）。

2.根据权利要求1所述的一种高延低峰值铜箔铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，其特征在于：所述第二活动槽（16）与第三活动槽（17）的位置位于同一水平线上，所述第二活动槽（16）与第三活动槽（17）的数量均为两条。

3.根据权利要求1所述的一种高延低峰值铜箔铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，其特征在于：所述转轴（5）的一端固定连接有限位方板（20），所述转盘（6）的表面与支撑板（3）的表面滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种高延低峰值铜箔铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，其特征在于：所述滑动槽（12）的长度大于从动连接板（14），所述从动连接板（14）的表面与回收箱体（2）的表面滑动连接。

5.根据权利要求1所述的一种高延低峰值铜箔铜箔后处理系统中硅溶液回收装置，其特征在于：所述支撑板（3）的位置位于回收箱体（2）的对称中心线上，所述连接杆（7）的位置位于支撑板（3）的对称中心线上。