[实用新型]曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备

权利要求书

1.一种曲面磁控溅射阴极，包括阴极主体，该阴极主体包括有外磁体、绝缘套组件、靶材、电极和冷媒套，其特征在于：所述的靶材为带有一侧开口的曲面靶材，所述的曲面靶材的内部空腔构成气体电离区，该曲面靶材的开口处构成磁控溅射原子及离子的出射口，所述的冷媒套的内壁曲面轮廓形状与曲面靶材的外壁曲面轮廓形状相适配，且冷媒套包设于靶材的外侧构成热交换连接，所述的绝缘套组件包括有设置于外磁体和冷媒套之间的曲面绝缘套，所述的外磁体的内壁曲面轮廓形状与曲面绝缘套的外壁曲面轮廓形状相适配，且该外磁体滑移设置于曲面绝缘套的外壁曲面轮廓上，还包括有用于驱动外磁体沿曲面绝缘套的外壁曲面轮廓滑移的外磁体转动组件。

2.根据权利要求1所述的一种曲面磁控溅射阴极，其特征在于：所述的靶材也包括纯金属靶材、金属及非金属复合靶材、非金属靶材，分别用于实现金属及合金、金属非金属复合材料、非金属材料的曲面磁控溅射；所述纯金属靶材为多组金属基片瓦拼接而成，所述金属及非金属复合靶材由金属基片瓦表面复合非金属材料形成，所述的非金属靶材为在金属基片瓦上直接钎焊非金属材料形成；所述的金属基片瓦为钛、铬、钨、铝、银、铜中的一种或其合金。

3.根据权利要求1所述的一种曲面磁控溅射阴极，其特征在于：外磁体包括有背板以及固定设置于背板上且相互依次排布的多片磁铁，且相邻的磁铁之间磁性相反布置，使得相邻磁铁的磁力线分布构成闭合磁力线。

4.根据权利要求1所述的一种曲面磁控溅射阴极，其特征在于：还包括有支撑固定机构，该支撑固定机构包括阴极固定组件和支撑轴，阴极固定组件包括有两只分别固定在阴极主体的轴向两侧端面的固定座，该固定座与阴极主体对应的轴向端面之间设置有端面绝缘套，所述的支撑轴支撑固定于两只固定座的外凸部之间；外磁体转动组件包括有固定设置于外磁体的外轮廓面上的曲面齿条，以及与曲面齿条传动啮合的驱动齿轮，所述的驱动齿轮转动设置于所述的支撑轴上，该驱动齿轮外接动力机构；还包括有滑动支撑机构，该滑动支撑机构包括有固定于外磁体外轮廓面上的外磁体滑动座，以及设置于支撑轴上的滑动支撑组件，所述的外磁体滑动座上设置有与外磁体滑移方向一致的滑移导向壁，所述的滑动支撑组件包括有设置有固定于支撑轴上的滑动支撑杆，以及设置于滑动支撑杆头部的转动导向轮，该转动导向轮的外壁一侧与滑移导向壁滑移导向配合。

5.根据权利要求1所述的一种曲面磁控溅射阴极，其特征在于：曲面靶材的曲面为圆弧曲面或椭圆曲面；曲面靶材开口的弧度角为90°-120°。

6.一种闭合磁场涂层磁控溅射设备，其特征在于：包括有真空腔室、转动装置、真空系统、及设置在真空腔室内的多个如权利要求1-5任一项所述的曲面磁控溅射阴极，该多个曲面磁控溅射阴极的外磁体的磁力线相互连接形成闭合磁场。