[实用新型]基板处理装置

说明书

一种基板处理装置，包含容器、多个基板处理室，及输送总成。容器用以供应流体。基板处理室用以对基板进行处理制程。输送总成包括输送管路单元、流体驱动单元，及侦测单元。输送管路单元连通于容器与所述基板处理室之间。流体驱动单元设置于输送管路单元用以驱动流体流动至所述基板处理室。侦测单元设置于输送管路单元并与流体驱动单元电连接。侦测单元用以侦测流体并产生侦测讯号，侦测单元根据侦测讯号控制流体驱动单元的转速，使输送管路单元将流体输出至所述基板处理室的状态维持稳定。

技术领域

本实用新型涉及一种基板处理装置，特别是涉及一种用以提供流体并对基板进行湿式处理制程的基板处理装置。

背景技术

现有基板处理装置的一主管路一端连通于一容器，容器用以供应例如处理液的流体。主管路末端与多条支管路的一端相连通，各支管路另一端与一处理室相连通。通过一设置于主管路上的泵运转，使得容器所储存的流体能经由主管路及支管路流动到处理室内，以对处理室内的基板进行湿式处理制程。

每条支管路上皆设置有一用以控制支管路流通或阻断的开关。当基板处理装置在运作过程中有任一个开关进行开启或关闭的操作来控制支管路的流通或阻断时，会影响主管路内的流体流到其他支管路内的流量及压力，使其他支管路内的流量及压力产生变化，进而造成流体输出至处理室时的流量及压力不稳定。

发明内容

因此，本实用新型的一目的，在于提供一种能够克服背景技术的至少一个缺点的基板处理装置。

本实用新型的目的及解决背景技术问题是采用以下技术方案来实现的，依据本实用新型提出的基板处理装置包含容器、多个基板处理室，及输送总成，所述容器用以供应流体，所述基板处理室用以对基板进行处理制程，所述输送总成包括输送管路单元、流体驱动单元，及侦测单元，所述输送管路单元连通于所述容器与所述基板处理室之间，所述流体驱动单元设置于所述输送管路单元用以驱动所述流体流动至所述基板处理室，所述侦测单元设置于所述输送管路单元并与所述流体驱动单元电连接，所述侦测单元用以侦测所述流体并产生侦测讯号，所述侦测单元根据所述侦测讯号控制所述流体驱动单元的转速，使所述输送管路单元将所述流体输出至所述基板处理室的状态维持稳定。

在一些实施态样中，所述输送管路单元包含循环管路，及多条输出管路，所述循环管路与所述容器相连通，所述输出管路两端分别连通于所述循环管路与对应的所述基板处理室，所述流体驱动单元包含设置于所述循环管路用以将所述容器内的所述流体排出的第一泵，所述侦测单元为设置于所述循环管路并与所述第一泵电连接的压力侦测单元，所述侦测单元用以侦测所述循环管路内的所述流体的压力且产生对应的所述侦测讯号，所述侦测单元根据所述侦测讯号控制所述第一泵的转速以使所述流体输出至所述基板处理室的流量维持预设流量。

在一些实施态样中，所述第一泵设置于所述容器一侧并与所述循环管路一端连通，所述循环管路另一端与所述容器连通。

在一些实施态样中，所述侦测单元设置在位于所述输出管路之后的所述循环管路下游侧。

在一些实施态样中，所述输送管路单元包含循环管路，及多条输出管路，所述循环管路的两端分别与所述容器相连通，所述输出管路两端分别连通于所述循环管路与对应的所述基板处理室，所述流体驱动单元包含设置于所述循环管路用以将所述容器内的所述流体排出的第一泵，及多个分别设置于所述输出管路的第二泵，所述侦测单元包含多个流量侦测模块，所述流量侦测模块设置于对应的所述输出管路并与对应的所述第二泵电连接，所述流量侦测模块用以侦测对应的所述输出管路内的所述流体的流量且产生对应的所述侦测讯号，所述流量侦测模块根据所述侦测讯号控制对应的所述第二泵的转速以使所述流体输出至所述基板处理室的所述流量维持预设流量。

在一些实施态样中，所述输出管路的长度及管径相同。