[实用新型]一种可移动的碳化硅生长坩埚平台

权利要求书

1.一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述可移动的碳化硅生长坩埚装置包括：

传送机构，所述传送机构包括传送带，所述传送带上装有碳化硅原料装置，所述传送带由双向运转的步进电机驱动；

坩埚生长装置，包括碳热还原反应室、物质输送通道和碳化硅晶体生长室，所述坩埚生长装置通过传动机构带动使所述碳热还原反应室对接至所述传送带上的所述碳化硅原料装置，所述碳热还原反应室的壁面上设置有加热装置；

控制器，所述控制器选择性控制所述传送带正向运动以将所述碳化硅原料装置运送至所述碳热反应室内，或所述传送带反向运动将所述碳化硅原料装置带离所述碳热反应室。

2.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述传送带上间隔设有限位部件，所述限位部件包括第一定位构件，与所述第一定位构件沿反向间隔一定距离地并行设置的第二定位构件，所述碳化硅原料装置设置在所述第一定位构件和第二定位构件之间，第二定位构件推动所述碳化硅原料装置正向传动。

3.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述碳化硅原料装置包括平板结构，和在所述平板结构向上向下的突出沿，所述下部突出沿与所述第一定位构件相匹配。

4.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述碳热还原反应室靠近所述传送机构一侧设有开合门，所述碳热还原反应室另外三侧壁设有感应线圈，用于加热碳化硅原料。

5.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述碳热还原反应室与所述碳化硅晶体生长室接触的壁面对应位置上设有物质输送通道，与所述碳化硅晶体生长室接触的所述碳热还原反应室壁内设有感应线圈，所述碳热还原反应室壁面上贴合有隔热板，所述碳化硅晶体生长室的接触壁内设有中空铜管，所述铜管内通以循环冷却水。

6.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述碳热还原反应室内设有红外高温测温计，所述碳热还原反应室外连接有红外高温测温计显示装置。

7.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述碳化硅晶体生长室内设有碳化硅籽晶和气体温度计，所述碳化硅晶体生长室外连接有气体温度计显示装置。

8.根据权利要求1所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述控制器控制所述传送带正向运动时所述传送带上的所述碳化硅原料装置对接至所述碳热还原反应室，所述传送带继续正向运动以将所述碳化硅原料装置运送至所述碳热反应室内，或所述传送带反向运动以将所述碳化硅原料装置带离所述碳热反应室。

9.根据权利要求2或3所述一种可移动的碳化硅生长坩埚平台，其特征在于，所述传送带上的第一定位构件与所述碳热反应室内的所述碳化硅原料装置的下部突出沿相匹配，所述传送带反向运动带动所述第一定位构件反向传动，带动所述碳化硅原料装置撤离所述碳热反应室。