[实用新型]烹饪锅具及烹调器有效

专利信息
申请号: 201820228409.2 申请日: 2018-02-08
公开(公告)号: CN208463876U 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 马强;李建;史庭飞;龙开银;祝明月 申请(专利权)人: 浙江绍兴苏泊尔生活电器有限公司
主分类号: A47J45/06 分类号: A47J45/06;A47J36/24
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨佩;黄健
地址: 312017*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 测温组件 烹饪锅具 锅体 烹调器 温端 本实用新型 电磁炉 测温 控温 温控 探测
【说明书】:

实用新型提供一种烹饪锅具及烹调器,该烹饪锅具包括锅体(1)以及测温组件(3),锅体(1)具有平面锅底(11),锅底(11)上开设有凹槽(10),测温组件(3)的采温端(31)位于凹槽(10)内,测温组件(3)的采温端(31)至锅底(11)中心(111)的距离(r1)与锅底(11)的半径(r)的比值范围为0.5~0.9,这样使得测温组件探测到的锅体的温度更接近锅体的最高温度,从而提高了测温组件测温的准确性,提高了电磁炉对烹饪锅具控温的及时性和温控精度。

技术领域

本实用新型涉及家用电器技术领域,尤其涉及一种烹饪锅具及烹调器。

背景技术

电磁炉具有加热快速、无明火、安全方便等优点,越来越受到消费者的青睐和认可。

电磁炉主要包括:底壳和位于底壳顶部的面板,底壳内设有线圈盘、电路板等。电磁炉一般都有烧水、煮粥、煲汤等功能,精确控温可以使电磁炉更好的实现这些功能。为了实现电磁炉等加热装置对烹饪锅具的精确控温,现有技术的烹饪锅具主要包括:锅体以及用于检测锅体温度的测温组件,锅体具有平面锅底,锅底上开设有凹槽,测温组件的采温端位于凹槽中,且采温端设置在锅底中心。在烹饪时,将烹饪锅具放置在电磁炉上,通过测温组件直接采集锅底中心的温度,然后使电磁炉内的控制器根据测温组件测得的温度调节加热功率,从而实现电磁炉对烹饪锅具的控温。

利用电磁炉对锅具进行加热时,锅体的最高温度与锅底的中心有一定距离,然而,上述烹饪锅具的测温组件的采温端位于锅底的中心位置,导致测温组件探测到的温度并不是锅具最高点的温度,导致电磁炉对锅具的控温不及时,影响电磁炉的温控精度。

实用新型内容

为了解决背景技术中提到的至少一个问题,本实用新型提供一种烹饪锅具及烹调器,能够提高测温组件测温的准确性,提高电磁炉对锅具控温的及时性和温控精度。

为了实现上述目的,第一方面,本实用新型提供一种烹饪锅具,包括锅体以及用于检测所述锅体温度的测温组件,所述锅体具有平面锅底,所述锅底上开设有可容纳所述测温组件的凹槽,所述测温组件的采温端位于所述凹槽内,所述测温组件的采温端至所述锅底中心的距离与所述锅底的半径的比值范围为0.5~0.9。

本实用新型的烹饪锅具,通过将测温组件的采温端设置在锅底的非中心位置,使采温端至锅底中心的距离与锅底的半径的比值范围为0.5~0.9,在该范围内,采温端探测到的锅体的温度更接近锅体的最高温度,从而提高了测温组件测温的准确性,提高了电磁炉对锅具控温的及时性和温控精度。

可选的,所述测温组件的采温端至所述锅底中心的距离与所述锅底的半径的比值范围为0.65~0.75。

通过将测温组件的采温端至锅底中心的距离与锅底的半径的比值设置在该范围内,使得采温端探测到的温度更加接近锅体的最高温度,从而进一步提高了测温的准确性。

可选的,所述测温组件的采温端至所述锅底中心的距离与所述锅底的半径的比值为0.7。

通过将测温组件的采温端与锅底中心的距离与锅底的半径的比值设置为0.7,在该位置处,测温组件采集的温度与锅体的最高温度基本一致,从而进一步提高了测温的准确性。

可选的,所述凹槽延伸至所述锅体的外侧壁上,所述测温组件的连接端沿着所述锅体的外侧壁向上延伸,以与所述烹饪锅具的控制板连接。

通过使凹槽延伸至锅体的外侧壁上,使测温组件沿着凹槽向上延伸,从而通过凹槽对测温组件进行较好的定位,装配方便,提高了测温组件的稳定性,而且可以提高锅具的美观度。

可选的,所述测温组件与所述凹槽过盈配合。

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