[实用新型]镜头消除杂光装置有效

专利信息
申请号: 201820209631.8 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN207780458U 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 张可根 申请(专利权)人: 成都九天光学技术有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14
代理公司: 成都虹盛汇泉专利代理有限公司 51268 代理人: 王伟
地址: 611730 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 杂光 镜头 本实用新型 开口 多次反射 区域对应 区域设置 消除装置 漫反射 画质 入射 匹配 投影 吸收
【说明书】:

实用新型公开了一种镜头杂光消除装置,包括了镜头(5),在镜头(5)对应杂光(3)入射的区域设置匹配的开口(8)来引导杂光(3)进入杂光消除腔(A)。本实用新型具有如下优点:通过在镜头(5)上设置与杂光区域对应的开口(8)之后,直接将杂光导入杂光消除腔(A)内,经过多次反射、漫反射和/或吸收后消失。避免了杂光(3)进入镜头(5),从而提高投影画质。

技术领域

本实用新型涉及激光投影显示领域,具体涉及DLP激光投影镜头。

背景技术

目前DLP激光投影机相比传统投影机,具有原生对比度高、机器小型化、光路采用封闭式等优点。所以越来越多的DLP激光投影机被广泛使用,但人们对投影的画质要求也越来越高。

参考图1所示,在DLP激光投影系统中,最核心的部分就是DMD芯片1,当DMD芯片1处于on状态的时候,成像光线4通过棱镜2和镜头5成像,但是DMD芯片1处于off状态时,会产生定向的反射光线,反射光线会经过棱镜2进入镜头5内成为不需要的杂光3,这是一种无法避免的现象。目前的解决办法是将镜头内壁7加工出消光螺纹,并进行表面发黑处理来消除杂光。但是长期的使用发现,这种方案只能消除掉很弱的一部分光,而DMD芯片1的反射光线很强烈,最终还是会进入镜头产生杂光3。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:在DLP激光投影系统中,DMD芯片处于off状态时,反射光线也会进入镜头内成为不需要的杂光,从而降低投影画质的问题。

本实用新型所提出的技术问题是这样解决的:提供了一种镜头杂光消除装置,包括了镜头,在镜头对应杂光入射的区域设置匹配的开口来引导杂光进入杂光消除腔。

杂光消除腔是由镜头外筒与镜头外壁之间的空隙构成用来反射杂光的空间或者是单独设置的腔体,镜头对应杂光入射的区域是杂光反射时照在镜头内壁上的区域。

杂光消除腔截面形状设置有三角形区域,用于逐步缩短杂光反射路线,并使杂光始终朝向封闭的三角形区域的尖角前进,不会再反射回镜头。

杂光消除腔的内表面上设置有消光螺纹和/或作发黑处理,分别用于使杂光漫反射和用于主动吸收杂光。

本实用新型具有如下优点:通过在镜头上设置与杂光入射区域对应的开口之后,直接将杂光导入杂光消除腔内,经过多次反射、漫反射和/或吸收后消失。避免了杂光进入镜头,从而提高投影画质。

附图说明

图1是DLP激光投影机的部分剖视图;

其中,DMD芯片(1) 棱镜(2) 杂光(3) 成像光线(4) 镜头(5) 镜头外壁(6) 镜头内壁(7) 开口(8) 杂光消除腔内壁(9 )镜头外筒(10) 杂光消除腔(A)。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

实施例一

如图1所示,镜头5在杂光3对应的区域设置一个开口8,从而将杂光3导入杂光消除腔A内。杂光消除腔A是由镜头外筒10与镜头外壁6之间的空隙构成用来反射杂光3的空间,开口8设置在镜头内壁7的与杂光3对应的区域。杂光消除腔A还可以是单独设置的一个腔体,该腔体的入口与所述开口8相互匹配并连接。当杂光3进入杂光消除腔A之后经过不断地反射就会逐渐消失。

通过在镜头5上设置开口8之后,杂光3被导入杂光消除腔A中不断反射后消失,使镜头5中就不会有杂光3进入,进而提升了投影画质。

实施例二

基于实施例一,在杂光消除腔内壁9的外侧表面和镜头外壁6内侧表面上均加工有消光螺纹,消光螺纹是可以让杂光3由反射变成漫反射的结构。当杂光8进入杂光消除腔A之后经过不断地漫反射就会逐渐消失。

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