[实用新型]用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩

说明书

本实用新型涉及等离子弧割炬的喷口保护技术领域，尤其是一种用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩，包括中空的锥形保护罩本体，所述保护罩本体的两端均开口，所述保护罩本体的小端开口处向内延伸有端面环，所述端面环的内圈壁围合成主出气孔，所述保护罩本体的内壁上开设有环形凹槽，所述环形凹槽的槽底沿其圆周方向开设有若干副出气孔，所述副出气孔延伸至保护罩本体的外壁，本实用新型的用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩可对喷口进行全面的防护，有效的防止了切割时飞溅的铁渣对喷口造成损伤，同时还可提高喷口所喷出的弧柱的垂直度、坚挺性及切割能力。

技术领域

本实用新型涉及等离子弧割炬的喷口保护技术领域，尤其是一种用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩。

背景技术

割炬是气焊的重要工具，保护罩是为了等离子在机用自动化工作时特意添加的一配件，由于在割炬切割时会产生大量飞溅的焊渣，这些飞溅的焊渣容易对喷口造成损伤，因此现有技术中通常会利用在喷口外套设保护罩，喷口外会套设用于固定喷口的铜压帽，保护罩位于铜压帽的外侧，并在保护罩与铜压帽之间的夹层通入保护气，以此对喷口进行保护，同时为了增加保护罩自身的散热性能会在保护罩前端开设一圈小孔，然而保护罩前端开设一圈小孔后，保护罩与铜压帽之间夹层内的气流就会出现不均匀，即流经有小孔部位的气流与未流经有小孔部位的气流一并到达保护罩中心孔时的强度差异较大，从而影响喷口所喷出的弧柱的垂直度。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：为了解决现有技术中保护罩因前端开设一圈小孔后导致其中心孔处的气流不均，影响喷口所喷出的弧柱的垂直度的问题，现提供一种用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩，包括中空的锥形保护罩本体，所述保护罩本体的两端均开口，所述保护罩本体的小端开口处向内延伸有端面环，所述端面环的内圈壁围合成主出气孔，所述保护罩本体的内壁上开设有环形凹槽，所述环形凹槽的槽底沿其圆周方向开设有若干副出气孔，所述副出气孔延伸至保护罩本体的外壁。

本方案中通过在环形凹槽内开设副出气孔，当保护气经过环形凹槽时，保护气会均匀的分配一部分到环形凹槽内并从环形凹槽内的副出气孔喷出，用以对保护罩自身进行散热，经过环形凹槽的保护气会从主出气孔喷出，主出气孔喷出的保护气可有效的防止切割时飞溅的铁渣进入到喷口内，造成喷口的损伤；由于保护气是先经过环形凹槽，因此到达主出气孔的保护气会相对均匀，从而实现提高喷口所喷出的弧柱的垂直度及强度，其中，保护罩本体小端开口处的端面环的设置，使保护罩本体前端所形成的主出气孔的孔径变小，以便更好的压缩保护气，实现增强喷口所喷出的弧柱的坚挺性及切割能力，同时端面环还可以对喷口的前端端面进行防护，实现更好的对喷口进行保护。

为了便于保护罩在割炬上的安装，进一步地，所述保护罩本体的大端外壁上具有外台阶面，所述保护罩本体的大端内壁上具有内台阶面。

优选地，所述保护罩本体的材质为紫铜。

进一步地，所述主出气孔的轴线与保护罩本体的轴线重合，所述副出气孔的轴线从上至下向外倾斜，由于副出气孔的孔径相对较小，容易被焊渣堵塞，因此将副出气孔的轴线从上至下向外倾斜设置，使副出气孔的孔口避免直接竖直朝下，可减少焊渣飞溅到副出气孔中的机率。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩可对喷口进行全面的防护，有效的防止了切割时飞溅的铁渣对喷口造成损伤，同时还可提高喷口所喷出的弧柱的垂直度、坚挺性及切割能力。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩的三维示意图；

图2是本实用新型用于保护等离子弧割炬喷口的保护罩的剖视示意图；