[实用新型]高粘性低剥离硅胶保护膜

说明书

本实用新型公开了一种高粘性低剥离硅胶保护膜，其包括按照从上至下的顺序依次贴合的紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层；本实用新型结构设计合理，覆合有紫外固化硬涂层，耐磨，抗刮伤，保护效果好，在PET基材膜层的一面上进行电晕处理形成电晕处理层，由光滑平面变为粗糙面，有效增强粘附力，防止紫外固化硬涂层脱落，提高复合材料的结构稳定性；采用高粘硅胶层和氟素膜剥离层相配合，高粘硅胶层的粘性高，而采用氟素膜剥离层和替代传统的PET离型膜来作为托底膜，易于剥离，实现高粘性低剥离的目的，能满足于自动化生产线的应用要求。

技术领域

本实用新型涉及保护膜技术领域，特别涉及一种高粘性低剥离硅胶保护膜。

背景技术

表面保护膜也被称为掩蔽(masking)膜，通常用于提供物理屏障，以防粘附该表面保护膜的基片发生破坏、污染、刻划、刮擦或其它损坏。表面保护膜可用于在基片使用前的制造、运输或贮藏中提供这些保护。

然而现有市场上的高粘硅胶保护膜，其都是高粘性，且剥离力也高，通常粘性500g以上的剥离力都在25～35g之间，剥离力太重的情况下很难实现自动化生产线应用，给生产带来不便。并且普遍的高粘硅胶保护膜均是采用一层PET膜结构，保护效果差，很容易导致产品损坏。

实用新型内容

针对上述不足，本实用新型目的在于提供一种结构设计巧妙、合理，粘性高，易剥离，保护效果好的高粘性低剥离硅胶保护膜。

本实用新型为实现上述目的，所提供的技术方案是：

一种高粘性低剥离硅胶保护膜，其包括紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层，所述紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层按照从上至下的顺序依次贴合；所述PET基材膜层的厚度为40～60微米，所述高粘硅胶层的厚度为10～20微米，氟素膜剥离层的厚度为45～55微米。

作为本实用新型的一种改进，所述紫外固化硬涂层的厚度为10～15微米。

作为本实用新型的一种改进，所述电晕处理层的厚度为3～5微米。

作为本实用新型的一种改进，其还包括防刮PET膜层，该防刮PET膜层通过压克力胶层贴合在紫外固化硬涂层上。

作为本实用新型的一种改进，所述防刮PET膜层的厚度为115～135微米，压克力胶层的厚度为22～28微米。

本实用新型的有益效果为：本实用新型结构设计合理，覆合有紫外固化硬涂层，耐磨，抗刮伤，保护效果好，在PET基材膜层的一面上进行电晕处理形成电晕处理层，由光滑平面变为粗糙面，有效增强粘附力，防止紫外固化硬涂层脱落，提高复合材料的结构稳定性；采用高粘硅胶层和氟素膜剥离层相配合，高粘硅胶层的粘性高，而采用氟素膜剥离层和替代传统的PET离型膜来作为托底膜，易于剥离，实现高粘性低剥离的目的，能满足于自动化生产线的应用要求。

附图说明

图1是本实用新型的截面结构示意图。

具体实施方式

实施例：参见图1，本实用新型实施例提供一种高粘性低剥离硅胶保护膜，其包括紫外固化硬涂层1、电晕处理层2、PET基材膜层3、高粘硅胶层4和氟素膜剥离层，所述紫外固化硬涂层1、电晕处理层2、PET基材膜层3、高粘硅胶层4和氟素膜剥离层5按照从上至下的顺序依次贴合。

所述PET基材膜层3的厚度为40～60微米，优选为50微米；所述高粘硅胶层4的厚度为10～20微米，优选为13微米；氟素膜剥离层5的厚度为45～55微米，优选为50微米。所述紫外固化硬涂层1的厚度为10～15微米，优选为12微米；所述电晕处理层2的厚度为3～5微米，优选为4微米。