[实用新型]一种用于真空镀膜的氢气产生装置有效
| 申请号： | 201820185236.0 | 申请日： | 2018-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN207877875U | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 王德智;戴秀海;范滨;谢雄星 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C25B1/04 | 分类号： | C25B1/04;C25B9/00;B01D53/26 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 净化器 气水分离器 电解槽 氢气产生装置 本实用新型 真空镀膜 水箱 再生 吹扫 净化 水槽 薄膜制备技术 变色硅胶 反应装置 控制切换 氢气净化 氢气利用 无人值守 出气口 进水口 可循环 并联 除水 排出 连通 自动化 转换 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于真空镀膜的氢气产生装置，其特征在于：所述装置至少包括水箱、电解槽、气水分离器以及至少两个净化缸，其中所述水箱一端为进水口，另一端与所述电解槽连通，所述电解槽连接所述气水分离器，所述气水分离器并联所述净化缸，所述净化缸具有出气口。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的氢气产生装置，其特征在于：所述至少两个净化缸并联有一氢反应装置，所述氢反应装置与所述水箱相连通。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的氢气产生装置，其特征在于：所述气水分离器连接有压力控制器。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的氢气产生装置，其特征在于：所述水箱连接有补水泵，在所述水箱内设置有液位计，所述补水泵的工作状态由所述液位计所发出的液位信号控制。
5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的氢气产生装置，其特征在于：所述净化缸的所述出气口与真空镀膜机相连，且所述出气口与所述真空镀膜机之间设置有质量流量计。
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