[实用新型]一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备，由镀膜设备构成，所述镀膜设备由镀膜箱和加热设备构成，所述加热设备位于镀膜箱的底端且通过固定架与镀膜箱固定连接，所述镀膜箱顶部设有放电箱，所述放电箱内部设有离子发生器，所述镀膜箱侧壁上设有真空泵，所述真空泵内的旋转叶通过轴承于真空泵电机连接，所述镀膜箱内部设有基片夹具和坩埚，所述基片夹具的一端上设有基片，另一端通过导电装置与离子发生器连接，通过控制芯片内的智能模块的设计，使得整个镀膜设备变得智能化和人性化，通过控制芯片上的定时模块、控制模块和解析模块的协调确保了整个镀膜流程无需人力监管，从而解决了人力资源的输出问题。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体为一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。

目前的真空镀膜设备大多以离子蒸发模式为主，通常的离子蒸发设备多为半自动化设备，提供设备自动化镀膜的同时，需要人工进行监督和看管，从而造成人力资源的输出的现象，从而使得整个镀膜设备不具有智能化和人性化。为了解决上述问题，因此，我们提出了一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备，解决了背景技术中所提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备，由镀膜设备构成，所述镀膜设备由镀膜箱和加热设备构成，所述加热设备位于镀膜箱的底端且通过固定架与镀膜箱固定连接，所述镀膜箱顶部设有放电箱，所述放电箱内部设有离子发生器，所述镀膜箱侧壁上设有真空泵，所述真空泵内的旋转叶通过轴承于真空泵电机连接，所述镀膜箱内部设有基片夹具和坩埚，所述基片夹具的一端上设有基片，另一端通过导电装置与离子发生器连接，所述坩埚通过导热装置与加热设备内部的加热器连接，所述加热设备外部设有控制器，所述控制器外部设有显示屏、控制按键，所述控制器内部设有控制芯片、电路控制板和显示解调器，所述控制芯片通过集成线分别与控制按键、真空泵电机、离子发生器、加热器、电路控制板和显示解调器，所述显示解调器通过视频线与显示屏连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述控制芯片内部设有定时模块、控制模块和解析模块。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述镀膜箱和加热设备上均设有橡胶绝缘膜套，所述橡胶绝缘膜套均通过螺丝固定于镀膜箱和加热设备外壁上。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述与控制芯片连接的集成线内部由电源连接、信息传输线和信息接收线构成。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述电路控制板内部板体设有电路保护装置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

通过控制芯片内的智能模块的设计，使得整个镀膜设备变得智能化和人性化，通过控制芯片上的定时模块、控制模块和解析模块的协调运行，确保了整个镀膜流程无需人力监管，从而解决了人力资源的输出问题。

附图说明

图1为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备整体外观结构示意图；

图2为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备内部装置结构示意图；

图3为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备控制器内部结构示意图；

图4为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备工作原理结构示意图。