[实用新型]一种半导体二极管清理装置

说明书

一种半导体二极管清理装置，包括蓄水机构、二极管固定盘、输送机构和清洗机构，蓄水机构包括位于传送带下方的中部蓄水槽和位于中部蓄水槽下方的总蓄水槽，中部蓄水槽的下端连接设置有连接出水管，连接出水管与总蓄水槽连通，清洗机构包括输水软管、水泵、过滤器、负压风机和水管喷头，负压风机连通设置在连接出水管的侧面为中部蓄水槽提供负压，水管喷头上设置有控制水管喷头出水量的电控阀门，水管喷头的上端与输水软管连通设置，水管喷头的下端分别连接设置有水平向左的左输水管道和水平向右的右输水管道；总之本实用新型具有结构简单，节省水资源，清洗效果好，清洗速度快和能量消耗低的优点。

技术领域

本实用新型涉及半导体二极管加工技术领域，尤其涉及一种半导体二极管清理装置。

背景技术

目前二极管在生产加工过程中，酸洗腐蚀是非常重要的一道工序，酸洗腐蚀过后需用清水对二极管进行清洗，现有方法是人工手动用喷水管清洗装在模具内的二极管，这种清洗方式效率极低，劳动强度高，需要占用大量的人力成本，且人工清洗常常会有疏漏，造成部分二极管清洗不充分，影响二极管质量。同时现有的清理装置，在清洗处只设置有一排喷水管，而且水压很低，清洗效果不好，部分采用多排喷水管的清洗装置，每个喷水管均单独连接一个喷水头，多个喷水管排布结构复杂，不方便维护修理；而且水在冲洗杂物之后主要靠自然流动进入到蓄水槽内，不仅水进入蓄水槽的速度慢，而且也不利于杂物跟随水快速的进入蓄水槽，在清洗不好的前提上，为完成二极管的清洗则需要对二极管进行反复的清洗，效率低下的同时造成额外的浪费。另外部分现有的清理装置并未对清洗过的水进行处理，水在使用后直接排放，不重复利用，造成水资源的浪费。

实用新型内容

本实用新型提供一种半导体二极管清理装置，以解决现存的二极管清洗效果不好，清理水无法重复利用的技术问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种半导体二极管清理装置，包括蓄水机构、二极管固定盘、输送机构和清洗机构，输送机构包括沿左右方向水平设置的传送带，二极管固定盘放置在传送带上且在传送带的带动下左右运动，蓄水机构包括位于传送带下方的中部蓄水槽和位于中部蓄水槽下方的总蓄水槽，蓄水机构还包括位于传动带前侧的前端蓄水槽和位于传送带后侧的后端蓄水槽，前端蓄水槽和后端蓄水槽的高度均低于传送带，中部蓄水槽的下端连接设置有连接出水管，连接出水管与总蓄水槽连通，前端蓄水槽和后端蓄水槽的右端均与总蓄水槽连通，清洗机构包括输水软管、水泵、过滤器、负压风机和水管喷头，负压风机连通设置在连接出水管的侧面为中部蓄水槽提供负压，水泵设置在总蓄水槽内，水泵通过输水软管与水管喷头连通，输水软管上设置有过滤器；水管喷头位于传送带的上方，水管喷头上设置有控制水管喷头出水量的电控阀门，水管喷头的上端与输水软管连通设置，水管喷头的下端分别连接设置有水平向左的左输水管道和水平向右的右输水管道，左输水管道的左端与沿前后方向水平设置的左喷水管道的中部连通，右输水管道的右端与沿前后方向水平设置的右喷水管道的中部连通，左喷水管道和右喷水管道的前后两端均连接设置有出水孔；后端蓄水槽的上端连接设置有支撑架，水管喷头通过沿前后方向水平设置的水平支撑板支撑，水平支撑板的后端通过伸缩杆与支撑架固定连接。

进一步的，二极管固定盘包括矩形的二极管固定架，二极管并排的放置在二极管固定架上，二极管固定盘的前后宽度与传送带的宽度相同，相邻的二极管固定盘紧密接触均匀放置在传送带上。

进一步的，水管喷头的上端设置有竖直向上延伸的连接管，连接管的上端与输水软管固定连接，水平支撑板的前端套设在连接管上，水平支撑板和电控阀门之间的连接管上设置有外螺纹，水平支撑板和电控阀门之间设置有套设在连接管上的限位螺母，限位螺母放置在水平支撑板上。

进一步的，支撑架的左端高于水管喷头，支撑架的右端与水管喷头齐平，所述过滤器位于水管喷头的上方与支撑架左端的右侧壁固定连接，过滤器的下方连接设置有两个与支撑架的右端上表面固定连接的加强支撑杆支撑过滤器。

进一步的，支撑架的前侧设置有一排容纳水通过的排水通孔，排水通孔与二极管固定盘的上表面平齐。