[实用新型]一种镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种镀膜设备，通过将位置传感器设置在镀膜腔室外侧，并穿过传感器探测通路对镀膜腔室内部的镀膜载体的位置进行探测，从而避免位置传感器与镀膜载体直接接触而对镀膜载体产生损坏，且避免镀膜腔室内部极端环境对位置传感器造成不利影响；而且，通过设置防护装置，防止传感器探测通路被镀膜阻挡，从而保证位置传感器的正常工作；本实用新型结构简单，成本较低，使用方便。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池加工领域，尤其涉及一种镀膜设备。

背景技术

随着环境污染的问题越来越严重，人们越来越重视清洁能源的开发和应用，而薄膜太阳能电池作为一种缓解能源危机的新型的光伏器件，越来越受到大家的欢迎，PVD(Physical Vapor Deposition---物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积Chemical VaporDeposition)就是电池制备工艺过程中常用的技术方法；通常量产的PVD和CVD设备由多个真空腔室组成，一般为进片室、加热室、工艺室、冷却室和出片室等，根据工艺需要进行数量配备，而对于电控系统，主要包括真空系统的控制、加热系统的控制、冷却系统的控制、工艺气体的控制和传输系统的控制等，其中，传输系统主要是对镀膜载体的传输，比如玻璃载板或硅片载板等，当载体到达特定腔室时，通常由位置传感器将位置信号传输给控制系统，以便控制系统根据镀膜载体的位置来调整其停留时间及传输速度，从而控制整条生产线的生产节拍。

在镀膜设备中，真空腔室的温度有的很高，有的可达600摄氏度左右，尤其在镀膜腔室，有的是磁控溅射镀膜，有的是共蒸法镀膜，有的是等离子体镀膜，涉及的镀膜方式各不一样，因此将位置传感器安装在哪里安装在什么位置怎么安装就显得尤为重要。对于PVD、CVD量产设备或者其他同类设备，镀膜载体在传输线中进行传输的时候，对载体进行位置检测对于工艺需求和生产节拍来说是非常重要的，而腔室内的环境常常具有如下特点：真空环境或高真空环境；高温，有的可达600摄氏度左右；镀膜方式各不相同，镀膜环境复杂；那么，在选择位置传感器的时候，就有了一下思路：1)采用接触式机械传感器，那么必须安装在真空腔室内；2)采用非接触式的目前比较常用光电传感器，安装在真空腔室内；3)采用非接触式的目前比较常用的光电传感器，安装在真空腔室外。

在实际应用中，以上方法存在如下问题：

第一种方法，接触式的机械传感器在接触到镀膜载体的时候，会对镀膜载体产生损坏的可能，直接影响到镀膜的质量，而且安装和工作在真空腔室内，对于安装和维护带来不便；

第二种方法，非接触式光电传感器安装在真空腔室内，不仅安装和维修不便，最主要的是能在真空高温镀膜环境下工作的传感器几乎很难做到，即使能做到成本也较高；

第三种方法，非接触式光电传感器安装在真空腔室外，克服了以上两种方法的缺点，但所要做的就是必须给外部的光电传感器设置光线路径让传感器感知到镀膜载体的存在，实际应用中通常采用玻璃窗的方式，但玻璃窗有个问题，那就是在镀膜腔室内常常会出现玻璃窗被镀上膜，妨碍光电传感器的正常工作的情况。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种镀膜设备，以解决现有技术中的问题，防止对镀膜载体产生损坏，且保证传感器的正常工作。

本实用新型提供了一种镀膜设备，所述镀膜设备包括：

镀膜腔室；

设置在所述镀膜腔室的内部的镀膜载体，所述镀膜载体用于承载待镀膜工件；

设置在所述镀膜腔室的外部的位置传感器，所述位置传感器通过传感器探测通路探测所述镀膜载体的位置；

所述传感器探测通路连通所述位置传感器与所述镀膜腔室的内部；

防护装置，所述防护装置围绕所述传感器探测通路且沿着所述传感器探测通路延伸。

作为优选，所述防护装置为两端开放的中空型筒状件。