[实用新型]原位激光刻划装置有效

专利信息
申请号: 201820129362.4 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN208132211U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 白雨成;全义九;李相文;张昌泳;丁钟国;边娜恩 申请(专利权)人: 株式会社SELCOS;胜显(上海)商贸有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/70;H01L31/18
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 庄文莉
地址: 韩国京畿道华城*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 激光刻划装置 真空腔 本实用新型 薄膜太阳能电池 制造工艺 基板 太阳能电池单元 透明导电膜 大气状态 电池单元 光吸收层 生产效率 真空状态 背电极 刻划 移出 制备 加工 制造 激光 节约 外部
【权利要求书】:

1.一种原位激光刻划装置,其特征在于,包括:

为制备薄膜太阳能电池,放置基板的真空腔;及

设置在所述真空腔的外部,利用激光对所述真空腔内放置的基板进行刻划的激光刻划装置。

2.根据权利要求1所述的原位激光刻划装置,其特征在于,还包括位于所述真空腔上方,将激光束发射到所述基板上侧用于刻划在所述真空腔中已进行处理的基板的激光驱动部;

位于所述激光驱动部的上方,输出用于对准位置的视觉信号使所述激光驱动部发射的激光具有直进性的视觉部;及

位于所述真空腔下方,接收所述视觉部输出的视觉信号并对准所述激光驱动部位置的对准部。

3.根据权利要求2所述的原位激光刻划装置,其特征在于,还包括可使所述激光驱动部根据预定构图移动的传送部。

4.根据权利要求2所述的原位激光刻划装置,其特征在于,

所述基板包括背电极层、光吸收层和透明导电膜层,

所述激光刻划装置还包括控制部,用于控制所述激光驱动部使其对所述基板的各层选择性地进行刻划。

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