[实用新型]一种真空吸附治具

权利要求书

1.一种真空吸附治具，包括底座以及设于所述底座顶部上的顶板，其特征在于：所述顶板的顶面上设有若干支撑凸台和真空吸附机构；所述底座的底部设有若干个吸附磁铁和防呆柱体。

2.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于：所述真空吸附机构包括吸盘安装座和真空吸盘；所述吸盘安装座和所述支撑凸台高度相等，所述吸盘安装座上设有安装凹槽，所述安装凹槽的底面上设有安装凸台，所述安装凸台上设有抽真空孔；所述真空吸盘包括吸盘主体以及设于所述吸盘主体上的安装套，所述安装套套设于所述安装凸台上。

3.根据权利要求2所述的真空吸附治具，其特征在于：所述底座为中空底座，所述底座上还设有气管安装槽；所述底座的顶部设有与抽真空孔相通的气管安装孔，所述气管安装孔贯穿所述底座，所述气管安装孔的开口端外露于所述气管安装槽上。

4.根据权利要求1或3所述的真空吸附治具，其特征在于：所述吸附磁铁的数量为四个，四个所述吸附磁铁平均分为两列，两列所述吸附磁铁相对设于所述底座两条侧边的底部。

5.根据权利要求3所述的真空吸附治具，其特征在于：所述气管安装孔为螺纹孔。

6.根据权利要求4所述的真空吸附治具，其特征在于：所述防呆柱体设于其中一列所述吸附磁铁的中间。

7.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于：所述底座的两侧面上分别设有握持凹槽。

8.根据权利要求1或2所述的真空吸附治具，其特征在于：所述真空吸附机构沿直线均匀设置。

9.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于：所述支撑凸台的顶面为平面。