[实用新型]反射式光学编码器有效

专利信息
申请号: 201820081553.8 申请日: 2018-01-18
公开(公告)号: CN207730224U 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 张智 申请(专利权)人: 上海恩弼科技有限公司
主分类号: G01D5/30 分类号: G01D5/30
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 200001 上海市黄浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 感光芯片 发光体 透光孔 基板 移动光栅 反射层 反射式光学编码器 本实用新型 感光区域 上表面 穿过 表面形成 发光体嵌 任意设定 点光源 无障碍 反射 裸露 照射 汇聚
【说明书】:

实用新型涉及一种反射式光学编码器,包括基板;嵌于基板的发光体,所述发光体向上发出光线;置于所述基板之上的感光芯片,所述感光芯片的上表面形成有感光区域,所述感光芯片上对应所述发光体开设有供所述光线穿过的透光孔,通过所述透光孔使所述光线在所述感光芯片的上表面汇聚形成点光源;以及位于所述感光芯片上方的移动光栅,所述移动光栅的表面形成有反射层,所述光线穿过所述透光孔照射于所述反射层,并通过所述反射层反射至所述感光区域。本实用新型采用在感光芯片上开设透光孔并将发光体嵌于感光芯片下方的基板,使得发光体不裸露在感光芯片表面,不易损坏,且感光芯片与移动光栅之间无障碍,可以任意设定间距。

技术领域

本实用新型涉及编码器技术领域,特指一种反射式光学编码器。

背景技术

说明书附图图1为现有的反射式光学编码器的结构,其包括基板10’、置于基板10’之上的感光芯片20’、位于感光芯片上方的移动光栅30’以及装设于感光芯片之上的发光体40’。其中,感光芯片20’通过绑定线21’固定于基板10之上。由于发光体40’装设于感光芯片20’之上,位于感光芯片20’与移动光栅30’之间,使得发光体40’裸露,致使其防护较差容易损坏,尤其是当发光体40’为LED芯片时,LED灯珠的金线很容易损坏。此外,感光芯片20’与移动光栅30’之间的距离较大,使得反射式光学编码器体积较大、使用不便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种反射式光学编码器,可以解决现有的反射式光学编码器的发光体裸露易损坏的问题。

实现上述目的的技术方案是:

本实用新型提供了一种反射式光学编码器,包括:

基板;

嵌于基板的发光体,所述发光体向上发出光线;

置于所述基板之上的感光芯片,所述感光芯片的上表面形成有感光区域,所述感光芯片上对应所述发光体开设有供所述光线穿过的透光孔,通过所述透光孔使所述光线在所述感光芯片的上表面汇聚形成点光源;以及

位于所述感光芯片上方的移动光栅,所述移动光栅的表面形成有反射层,所述光线穿过所述透光孔照射于所述反射层,并通过所述反射层反射至所述感光区域。

本实用新型的有益效果是,采用在感光芯片上开设透光孔并将发光体嵌于感光芯片下方的基板,从而在满足发光体发出的光线向上照射至移动光栅的同时,使得发光体不裸露在感光芯片表面,不易损坏,且感光芯片与移动光栅之间无障碍,可以任意设定间距。

本实用新型反射式光学编码器的进一步改进在于,所述透光孔为顶部开口小于底部开口的孔,从而使所述光线在所述感光芯片的上表面汇聚形成点光源。

本实用新型反射式光学编码器的进一步改进在于,所述透光孔的孔壁上镀有反光层。

本实用新型反射式光学编码器的进一步改进在于,所述基板上开设有通孔,所述通孔内形成有容置空间,所述发光体装设于所述容置空间内。

本实用新型反射式光学编码器的进一步改进在于,还包括一封装体,所述封装体包覆所述发光体并固定于所述容置空间内从而将所述发光体装设于所述容置空间内。

附图说明

图1为现有的反射式光学编码器的结构示意图。

图2为本实用新型反射式光学编码器的结构示意图。

图3为本实用新型反射式光学编码器中感光芯片的俯视图。

图4为本实用新型反射式光学编码器中感光芯片的侧剖视图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海恩弼科技有限公司,未经上海恩弼科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820081553.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top