[实用新型]一种用于颅颌面组织缺损修复的植入结构有效
申请号: | 201820080592.6 | 申请日: | 2018-01-18 |
公开(公告)号: | CN208770075U | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 张晓金;李学军;王苟思义;王中杰;吴建 | 申请(专利权)人: | 中南大学湘雅医院 |
主分类号: | A61F2/28 | 分类号: | A61F2/28;A61L27/06;A61L27/12;A61L27/50 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 廖慧敏 |
地址: | 410000*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 修复层 羟基磷灰石 钛合金 植入结构 本实用新型 颅颌面组织 缺损修复 网状孔 一体成型结构 骨组织生长 身体组织 损伤组织 上端 颅颌面 支撑性 长轴 短轴 钙磷 通孔 植入 游离 诱导 体内 修复 吸收 | ||
本实用新型公开一种用于颅颌面组织缺损修复的植入结构,包括羟基磷灰石修复层、钛合金修复层,羟基磷灰石修复层位于钛合金修复层的上端,羟基磷灰石修复层为具有网状孔的梭子形状,钛合金修复层上设有网状孔,羟基磷灰石修复层上位于长轴的两端分别设有第一插入块、第二插入块,且羟基磷灰石修复层上位于短轴的两端分别设有第一通孔。本实用新型将颅颌面植入结构设计为羟基磷灰石修复层、钛合金修复层一体成型结构,羟基磷灰石修复层会在植入体内后,钙磷游离出来被身体组织吸收,并诱导出新的骨组织生长,且钛合金修复层设置,确保对损伤组织部位的形状具有一定支撑性,使修复后的组织能够保持一定形状,维持头部正常弯窿状外形。
技术领域
本实用新型涉及医疗设备技术领域,具体涉及一种用于颅颌面组织缺损修复的植入结构。
背景技术
完整的颅骨不仅有助于维持头面部外形,而且是颅脑与外界的一种屏障,颅骨缺损是临床上一种常见的继发性疾病。主要见于各种外伤和术后,如电击伤、车祸伤、枪弹伤、颅骨恶性肿瘤切除、先天性畸形、去颅骨瓣减压术后等。随着医疗技术水平的提高和病人利益最大化原则的要求,颅骨重建的必要性:(1)保持硬脑膜的完整性,即大脑的保护;(2)颅脑与外界之间的屏障保护,即生物力学稳定;(3)维持头部正常弯窿状外形,即美学要求。
而针对颅颌面局部受伤时,采用整个颅颌面结构不合适,且该颅颌面局部修复体插入进去存在支撑强度低,生物相容性差等技术问题。
基于此,研究并设计一种用于颅颌面组织缺损修复的植入结构。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:现有颅颌面组织缺损修复体存在的支撑强度低,生物相容性差等问题,采用包括羟基磷灰石修复层、钛合金修复层复合成的一体结构,羟基磷灰石修复层具有良好的生物相容性、骨传导性和固诱导性,而采用钛合金修复层,利于提高整个植入结构的强度。
本实用新型通过下述技术方案实现:
一种用于颅颌面组织缺损修复的植入结构,包括羟基磷灰石修复层、钛合金修复层,羟基磷灰石修复层位于钛合金修复层的上端,羟基磷灰石修复层为具有网状孔的梭子形状,钛合金修复层上设有网状孔,羟基磷灰石修复层上位于长轴的两端分别设有第一插入块、第二插入块,且羟基磷灰石修复层上位于短轴的两端分别设有第一通孔、第二通孔,第一通孔、第二通孔内均插入有将羟基磷灰石修复层与钛合金修复层固定的连接件。
进一步地,所述第一插入块、第二插入块为以羟基磷灰石修复层的中心轴呈中心对称结构。
进一步地,所述第一插入块为弯曲的长条板状结构。
进一步地,所述第一插入块与第二插入块的结构相同。
进一步地,所述连接件包括圆盘座、螺纹件、弯曲体,圆盘座、螺纹件、弯曲体一体成型,螺纹件的外表面设有外螺纹,螺纹件的上端设有圆盘座,弯曲体位于圆盘座的上端。
进一步地,所述螺纹件为长圆柱结构,其横截面为圆形,且螺纹件从上至下,圆直径依次减小。
进一步地,所述螺纹件的中心线与圆盘座的中心线重合。
进一步地,所述弯曲体为弯曲的圆锥体结构。
本实用新型具有如下的优点和有益效果:
(1)本实用新型将颅颌面植入结构设计为羟基磷灰石修复层、钛合金修复层一体成型结构,羟基磷灰石修复层会在植入体内后,钙磷游离出来被身体组织吸收,并诱导出新的骨组织生长,且钛合金修复层设置,增强植入结构的强度,确保对损伤组织部位的形状具有一定支撑性,使修复后的组织能够保持一定形状,维持头部正常弯窿状外形。
(2)本技术方案在羟基磷灰石修复层、钛合金修复层上设置第一通孔、第一通孔,并在第一通孔、第二通孔内插入连接件,对两者进行固定,使其在植入体内初期具备一定形状。
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