[实用新型]一种多晶硅还原炉有效
| 申请号： | 201820075952.3 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN208648763U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 蒋文武;李玉忠;张敬亮 | 申请（专利权）人： | 江苏中能硅业科技发展有限公司;厦门佰事兴新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035;C22C19/07;C22C19/05;C23C4/129;C23C4/134;C23C4/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 221004 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 炉筒 炉筒内壁 多晶硅还原炉 本实用新型 炉筒外壁 粗化层 冷媒体 视镜孔 钨合金 喷砂 节电效果 热量损失 电阻率 多晶硅 功能层 还原炉 进入口 排出口 底盘 镍基 水腔 外壁 钴基 贯穿 | ||
【权利要求书】：
1.一种多晶硅还原炉，包括炉筒(1)，所述炉筒(1)安装在底盘(6)上，所述炉筒(1)由炉筒内壁(3)和炉筒外壁(10)组成，所述炉筒外壁(10)与炉筒内壁(3)之间设置水腔(4)，所述炉筒(1)上、中、下部位分布至少3个视镜孔(7、8、9)，所述视镜孔贯穿炉筒内壁(3)、外壁(10)，所述炉筒(1)下部设有冷媒体进入口(5)，所述炉筒上部设有冷媒体排出口(2)，其特征在于，所述炉筒内壁(3)上设有喷砂粗化层(11)，所述喷砂粗化层(11)上设有功能层(12)，所述功能层(12)为镍基钨合金或钴基钨合金形成的功能层。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉，其特征在于，所述功能层(12)表面粗糙度为0.01～0.3μm、厚度为0.12～2.5mm。
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉，其特征在于，所述喷砂粗化层(11)表面粗糙度为10～500μm。
4.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉，其特征在于，所述喷砂粗化层(11)为通过喷砂工艺形成的具有不规则凹凸表面的结构。
5.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉，其特征在于，所述功能层(12)空隙率小于0.5％，所述功能层(12)的结合强度不低于55MPa。
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