[实用新型]一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈有效
| 申请号： | 201820063997.9 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN207866908U | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 高伟波;王顺杰 | 申请（专利权）人： | 宁波市计量测试研究院（宁波市衡器管理所;宁波新材料检验检测中心） |
| 主分类号： | G01R29/08 | 分类号： | G01R29/08;G01R3/00 |
| 代理公司： | 宁波天一专利代理有限公司 33207 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 315103 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基底 绝缘 薄膜沉积技术 导电薄膜 矩形横截面 微米量级 制作 导电层 漆包线 沉积导电薄膜 绝缘基底表面 圆形横截面 安全隔离 呈圆环状 传统圆形 电磁信号 交替分布 使用性能 线圈整体 轴向切割 逐层卷绕 均匀性 线圈本 圆环状 线径 检测 | ||
1.一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈，包括绝缘基底（1），其特征在于所述的绝缘基底（1）表面沉积导电薄膜（2）后逐层卷绕呈圆环状，该超薄线圈具有沿圆环状的轴向切割而成的矩形横截面，该矩形横截面由在内的绝缘基底（1）和在外的导电薄膜（2）交替分布构成，且绝缘基底（1）和导电薄膜（2）的截面也为矩形。
2.根据权利要求1所述的一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈，其特征在于所述的绝缘基底（1）采用聚酰亚胺柔性基底或氧化铝为代表的绝缘薄膜，该绝缘基底（1）的矩形截面边长由膜厚h0和线圈厚度h2组成；所述的导电薄膜（2）采用铜薄膜为代表的金属导电薄膜，该导电薄膜（2）的矩形截面边长由膜厚h1和线圈厚度h2组成，导电薄膜为连接导线的导电层。
3.根据权利要求2所述的一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈，其特征在于所述的导电薄膜（2）膜厚h1大于1µm，超薄线圈的线圈厚度h2为1µm~1000µm。
4.根据权利要求2所述的一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈，其特征在于所述的绝缘基底（1）为聚酰亚胺柔性基底，其膜厚h0按照标称厚度选择7.5µm、13µm、20µm、25µm、40µm、50µm、75µm、100µm、125µm这九种。
5.根据权利要求1所述的一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈，其特征在于所述的超薄线圈的上、下表面均镀覆一层薄绝缘层。
6.根据权利要求1所述的一种利用薄膜沉积技术制作的超薄线圈，其特征在于所述的薄膜沉积技术是指物理气相沉积或化学气相沉积。
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