[实用新型]一种单晶金刚石制备装置

权利要求书

1.一种单晶金刚石制备装置，包括用于进行等离子体气相沉积的反应腔，其特征在于，所述单晶金刚石制备装置还包括与所述反应腔连通的第一进气通道和第二进气通道以及设于所述第二进气通道进气路径上的掺杂装置，所述掺杂装置用于盛放水溶液，反应气体通过所述第二进气通道进入所述反应腔之前，先经过所述掺杂装置，从而将水蒸气带入所述反应腔。

2.根据权利要求1所述的单晶金刚石制备装置，其特征在于，所述掺杂装置包括密闭的容器、进气管以及出气管，所述容器内适于盛放水溶液，所述进气管一端延伸进入所述容器的水面以下，所述出气管一端处于所述容器的水面上方，所述进气管和所述出气管的另一端分别与所述第二进气通道连通。

3.根据权利要求1所述的单晶金刚石制备装置，其特征在于，所述第二进气通道的路径上还设有添加剂管道，所述添加剂管道设于所述掺杂装置与所述反应腔之间，以使得混合有水蒸气的气体经过所述添加剂管道后，进入所述反应腔，所述添加剂管道内填充有可溶于水的掺杂物质。

4.根据权利要求3所述的单晶金刚石制备装置，其特征在于，所述添加剂管道内填充有块状碳化硼。

5.根据权利要求3所述的单晶金刚石制备装置，其特征在于，所述单晶金刚石制备装置还包括微波发生器、导波管、样品台、冷却装置以及抽气装置，所述微波发生器用于产生微波，微波经过所述导波管进入所述反应腔，所述样品台设于所述反应腔内，所述样品台用于放置基片，所述冷却装置用于对所述样品台进行冷却，所述抽气装置用于对所述反应腔抽气。