[实用新型]一种硅片浮动支撑机构

说明书

本实用新型公开了一种硅片浮动支撑机构，包括支架、气缸、斜面推头、连接杆、放料板、定位片、避让槽、支撑夹紧机构，手动将硅片放置在放料板上，定位片对硅片进行限位，随后，气缸回程，4件对称布置的支撑夹紧机构同时工作，弹簧复位推动楔形块沿滑轨向斜面推头移动，从而带动支撑杆移动，进而带动4件对称布置的支撑夹紧机构收缩合拢，支撑杆沿避让槽上移，直到4件对称布置的支撑杆将硅片托起，随着斜面推头的进一步下移，弹簧进一步复位带动4件对称布置的支撑杆将硅片夹紧。该装置结构简单，自动将硅片托起、夹紧，硅片夹紧时处于“浮动”状态，避免硅片与夹具或支撑部件大面积接触，防止硅片产生二次污染。

技术领域

本实用新型涉及一种机械装置，尤其涉及一种硅片浮动支撑机构。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除，在实际生产中，不管是刷洗还是擦洗往往是对硅片的上下两个表面分别清洗，由于清洗时往往将硅片放置在支撑机构上，当清洗好上表面后再翻转180°清洗下表面时，清洗好的上表面与支撑机构接触后易产生二次污染。鉴于以上缺陷，实有必要设计一种硅片浮动支撑机构。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片浮动支撑机构，该硅片浮动支撑机构自动将硅片托起、夹紧，硅片夹紧时处于“浮动”状态，避免硅片与夹具或支撑部件大面积接触，防止硅片产生二次污染。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种硅片浮动支撑机构，包括支架、气缸、斜面推头、连接杆、放料板、定位片、避让槽、沿所述斜面推头对称布置数量为4件的支撑夹紧机构，所述的气缸位于支架下端，所述的气缸与支架通过螺栓相连，所述的斜面推头位于气缸上端且贯穿支架，所述的斜面推头与气缸螺纹相连，所述的连接杆位于斜面推头上端，所述的连接杆与斜面推头螺纹相连，所述的放料板位于连接杆上端，所述的放料板与连接板螺纹相连，所述的定位片位于放料板侧面，所述的定位片与放料板通过螺栓相连，所述的避让槽数量为4件，沿放料板对称布置；

所述的支撑夹紧机构还包括导套、第一导杆、楔形块、弹簧、支撑杆、L形护套，所述的导套位于支架上端，所述的导套与支架通过螺栓相连，所述的第一导杆贯穿导套，所述的第一导杆可以沿导套左右滑动，所述的楔形块位于第一导杆外侧且位于支架上端，所述的楔形块与第一导杆螺纹相连且与支架通过螺栓相连，所述的弹簧位于第一导杆外侧且位于楔形块和导套之间，所述的支撑杆位于楔形块上端，所述的支撑杆与楔形块焊接相连，所述的L形护套位于支撑杆顶部，所述的L形护套护与支撑杆粘接相连，4件对称布置的L形护套806组成夹紧定位区域，将硅片精确定位、夹紧。

本实用新型进一步的改进如下：

进一步的，所述的连接杆数量为3件，均布于斜面推头。

进一步的，所述的斜面推头还设有第二导杆，所述的第二导杆位于斜面推头下端且贯穿支架，所述的第二导杆与斜面推头螺纹相连，所述的第二导杆可以沿支架上下滑动。

进一步的，所述的楔形块还设有滑轨，所述的滑轨位于支架上端且贯穿楔形块，所述的滑轨与支架通过螺栓相连，所述的楔形块可以沿滑轨左右滑动。

进一步的，所述的第一导杆还设有限位头，所述的限位头与第一导杆一体相连。

进一步的，所述的限位头还设有防撞垫，所述的防撞垫与限位头粘接相连。