[发明专利]一种摄像装置环境试验稳定性的检测装置及方法有效

专利信息
申请号: 201811653814.X 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109632264B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 昌明;赵建科;周艳;乔卫东;郭梁;王争锋;薛勋;李晶;巩立;李跃 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所;西安理工大学
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 涂秀清
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 摄像装置 剪切架 环境试验 自准直 十字分划板 光学平台 检测装置 自准直仪 光轴 图像 环境影响因素 摄像装置光轴 对比试验 高度控制 间隔安装 图像判断 检测 等高 测量 采集 试验
【说明书】:

发明公开的一种摄像装置环境试验稳定性的检测方法,首先安装好检测装置,包括光学平台,光学平台上间隔安装剪切架I和剪切架II,所述剪切架I上放置PSD自准直仪,剪切架II上放置摄像装置,调整剪切架I和剪切架II的高度控制PSD自准直仪的光轴与摄像装置的光轴等高,调整自准直仪与摄像装置光轴位置,确保自准直仪的偏差角度为零;然后摄像装置采集自准直仪的图像判断十字分划板的像在图像中的位置,对比试验前后的十字分划板的像在图像中的位置,确定摄像装置在经历规定的环境试验后的稳定性。本发明公开的检测方法结构简单,调整便捷,便于在试验现场快速搭建和测量,受环境影响因素小的特点。

技术领域

本发明属于光电测试技术领域,涉及一种摄像装置环境试验稳定性的检测装置,还涉及一种摄像装置环境试验稳定性的检测方法。

背景技术

随着CCD摄像装置的应用领域不断拓展,对其能够耐受的使用环境提出了更加苛刻的要求,希望其能够耐受冲击、振动、高低温等恶劣条件,提高稳定性和可靠性。为了验证CCD摄像装置在经历各类环境试验后,其光学机械结构与CCD焦面结构是否发生变化,从而为进一步的性能测试提供参考,因此,就需要采取某种测试方法,对比光学机械结构与CCD焦面结构的相对位置的变化。

目前,用于检查摄像装置光学机械结构与CCD焦面结构的相对位置的变化两种方法:一种是比对摄像装置试验前后的调制传递函数值,另一种是通过测量摄像装置试验前后的主点坐标值。其中,测量摄像装置的传递函数值,需要在平行光管焦面处放置一个与摄像装置参数相适应的条纹板,条纹板由均匀光源照亮,摄像装置对条纹板成像,由计算机采集图像,并按照摄像装置调制传递函数的计算方法对黑白条纹像进行计算。通过对比试验前后,摄像装置不同视场处的调制传递函数值,判断摄像装置的光学机械结构与CCD焦面结构有无发生相对位移。此方法通过直接对摄像装置的成像性能进行测试,可一次性完成性能测试和比对验证,但是调制传递函数的测试调整过程比较复杂,测试时间较长,且容易受到周围环境因素的影响,如温度、湿度和气流等,造成的测试重复性偏差,不易判断根本原因,不便于在环境试验现场快速开展。测量摄像装置试验前后的主点坐标值,需要在平行光管焦面处放置一个大小与摄像装置参数匹配的星点,星点由均匀光源照亮,摄像装置位于平行光管出口处。摄像装置安装在二维转台的回转中心上,摄像装置光轴与平行光管同轴等高,对星点成像。二维转台带动相机沿从左到右,从上到下的方向按照一定间隔对星点成像,采集图像和转台角度数据。采集完毕,按照相机内方位元素的计算方法,对采集图像进行数据处理,得到相机的主点坐标。通过比对试验前后,摄像装置的主点坐标,检查光学机械结构与CCD焦面结构的相对位置有无发生变化。此方法的优点是测量精度高,缺点是对测量环境要求高,测量和数据处理过程复杂,只有专业人员才能完成,测量过程稍有差错,就只能重新开始,因而测量效率低,不便于在环境试验现场快速开展。

发明内容

本发明的目的是提供一种摄像装置环境试验稳定性的测试方法,解决了现有技术调整过程复杂以及对环境要求高从而导致工作效率低的问题。

本发明所采用的技术方案是,一种摄像装置环境试验稳定性的检测方法,具体操作过程包括如下步骤:

步骤1.安装一种摄像装置稳定性的检测装置,包括光学平台,光学平台上间隔安装剪切架I和剪切架II,剪切架I上放置PSD自准直仪,剪切架II上放置摄像装置,调整剪切架I和剪切架II的高度控制PSD自准直仪的光轴与摄像装置的光轴等高;

PSD自准直仪包括目标反射面、望远透镜组、光源、聚焦透镜、分光棱镜、汇聚透镜和PSD芯片,汇聚透镜的焦点处与光源之间安装有十字分划板,光源采用了中心波长为780nm的LED光源,调频驱动为1kHz频率方波;

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