[发明专利]制造含氧空位的CuO纳米片的方法

权利要求书

1.一种制造含氧空位的CuO纳米片的方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)制备含有十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)的水溶液A；

(2)制备含有硝酸铜的水溶液B；

(3)在搅拌状态下将水溶液B缓慢加入到水溶液A中得到固液混合物C；

(4)固液混合物C分离去除部分或者全部液体，然后煅烧得到CuO纳米片；

(5)制备含有氢氧化钠以及硼氢化钠的水溶液D；

(6)将CuO纳米片加入到水溶液D中，冰水浴条件下反应，洗涤干燥后得到含氧空位的CuO纳米片。

2.根据权利要求1所述的制造方法，所述的水溶液A中含有碱，并且水溶液的pH值大于8；优选pH大于10。

3.根据权利要求1所述的制造方法，所述的煅烧温度的最高温度为200～500℃；优选的最高温度为200～300℃。

4.根据权利要求1所述的制造方法，固液混合物C分离去除部分或者全部液体是通过抽滤实施。

5.根据权利要求4所述的制造方法，在抽滤之前先将上清液去除，然后再依次使用水和乙醇抽滤洗涤。

6.根据权利要求1所述的制造方法，所述的含有氢氧化钠以及硼氢化钠的水溶液D是通过在冰水浴条件下将硼氢化钠加入含有氢氧化钠的水溶液制备得到；优选的，在冰水浴条件下超声振荡得到水溶液D。

7.根据权利要求1所述的制造方法，将CuO纳米片加入到水溶液D中后不进行超声振荡。

8.根据权利要求1所述的制造方法，步骤(6)的干燥是在真空干燥箱中进行。

9.权利要求1～8任意一项所述的制造方法所制造的含氧空位的CuO催化剂。

10.根据权利要求9所述的催化剂，所述含氧空位的CuO纳米片的厚度为14～23nm之间，宽度为100～200nm之间。