[发明专利]一种氮化硅CMP抛光液及其抛光供液设备在审
| 申请号： | 201811623642.1 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109439202A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 伊观兰 | 申请（专利权）人： | 天津洙诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人： | 王程远 |
| 地址： | 301800 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光液 供液设备 保湿剂 氮化硅 抛光 羟乙基纤维素 氧化剂 表面活性剂 超光滑加工 水溶硅溶胶 保水能力 分散助剂 干燥结晶 聚乙烯醇 纳米级别 纳米磨料 抛光加工 去离子水 水分蒸发 原料制备 成膜性 低损伤 低应力 调制剂 酸性pH 有效地 增速剂 重量份 废液 供液 挥发 回收 成功 | ||
1.一种氮化硅CMP抛光液，其特征在于，由以下重量份的原料制备而成：纳米磨料40～60份、氧化剂2～6份、表面活性剂1～6份、保湿剂2～4份、酸性pH调制剂2～4份、增速剂4～8份、去离子水30～50份、抛光液分散助剂2～6份。
2.根据权利要求1所述的一种氮化硅CMP抛光液，其特征在于，所述酸性pH调制剂为自硝酸、硫酸、盐酸、硝酸铵或丙酸中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的一种氮化硅CMP抛光液，其特征在于，所述纳米磨料为粒径范围为90～150nm的水溶硅溶胶。
4.根据权利要求1所述的一种氮化硅CMP抛光液，其特征在于，所述的保湿剂为聚乙烯醇或羟乙基纤维素。
5.根据权利要求1所述的一种氮化硅CMP抛光液，其特征在于，所述增速剂为乙二胺四乙酸。
6.根据权利要求1所述的一种氮化硅CMP抛光液，其特征在于，所述氧化剂为3％的过氧化氢溶液。
7.一种氮化硅CMP抛光液供液设备，包括空心立柱(1)、悬臂(2)、供液管(3)和供液机构(5)，其特征在于，所述空心立柱(1)的顶部安装有悬臂(2)，悬臂(2)上安装有若干个用于喷出抛光液的喷头(11)，每个所述喷头(11)均与抛光液出液管(12)连接，抛光液出液管(12)处于空心立柱(1)和悬臂(2)内，所述供液管(3)的端部通过螺纹接头(4)安装在空心立柱(1)上，且供液管(3)与抛光液出液管(12)连接，所述供液机构(5)包括筒体(501)、活塞(502)和活塞杆(505)，所述筒体(501)的顶部与供液管(3)连接，筒体(501)内安装有活塞(502)，活塞(502)由活塞杆(505)带动可相对于筒体(501)运动，供液管(3)对应供液管(3)与筒体(501)连接处的两侧位置处分别安装有单向阀一(506)和单向阀二(507)。
8.根据权利要求7所述的一种氮化硅CMP抛光液供液设备，其特征在于，所述筒体(501)的外部通过安装架(504)安装有电动执行机构(503)，电动执行机构(503)为电动推杆。
9.根据权利要求7或8所述的一种氮化硅CMP抛光液供液设备，其特征在于，所述悬臂(2)的正下方位置处设有底座(6)，底座(6)上放置有集液桶(8)，底座(6)内安装有磁力电机(7)，磁力电机(7)与处于集液桶(8)内的磁子(9)通过磁力耦合。
10.根据权利要求9所述的一种氮化硅CMP抛光液供液设备，其特征在于，所述集液桶(8)的顶部还安装有集液盖(10)，集液盖(10)为漏斗状结构。
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