[发明专利]投影系统及投影方法在审

专利信息
申请号: 201811621904.0 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN111385545A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 郑喆夫;张蕾芝 申请(专利权)人: 中强光电股份有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡洪贵
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 投影 系统 方法
【说明书】:

发明提供一种投影系统及使用所述投影系统的投影方法。投影系统可朝向投影目标投射投影光束。投影系统包括取像装置及投影装置。取像装置可撷取含有路径目标的外观影像为影像资讯。投影装置系电连接取像装置。投影装置可提供投影光束,且投影光束包括第一光束及第二光束,其中路径目标位于第一光束的传递路径上,且第二光束投射至投影目标。投影装置可依据影像资讯调整第一光束的发光强度,以降低第一光束的发光强度。本发明的投影系统及投影方法可避免光线直接照射至人、人脸、人眼或其他不适合被光照射的特定物件。

技术领域

本发明是有关于一种光学系统及光学系统操作方法,且特别是有关于一种投影系统及投影方法。

背景技术

投影装置为一种用于产生投影画面的显示装置,随着科技技术的演进与创新,一直不断的在进步。投影装置的成像原理是将照明系统所产生的照明光束借由光阀转换成影像光束,再将影像光束通过投影镜头投射到投射目标物(例如:屏幕或墙面上),以形成投影画面。

然而,在使用投影装置的场合中,若投影光束路径上有解说人员时,解说人员往往会不自觉地走进投影装置的投影范围,使得投影装置所投出的光束照射至解说人员的身上、脸部或甚至是眼睛,进而令解说人员分心,或是造成身体部位的伤害。同时,也使得观赏者在观察上感到不适。因此,如何让投影装置前方的解说人员不受影像光束影响而分心或造成身体部位伤害,是本领域人员需致力于行的。

“背景技术”段落只是用来帮助了解本发明内容,因此在“背景技术”段落所揭露的内容可能包含一些没有构成本领域技术人员所知道的已知技术。在“背景技术”段落所揭露的内容,不代表该内容或者本发明一个或多个实施例所要解决的问题,在本发明申请前已被本领域技术人员所知晓或认知。

发明内容

本发明提供一种投影系统及投影方法,可避免光束直接照射至人、人脸、人眼或其他不适合被光照射的特定物件等路径目标。

本发明的其他目的和优点可以从本发明所揭露的技术特征中得到进一步的了解。

为达上述之一或部分或全部目的或是其他目的,本发明的一实施例提出一种投影系统,可朝向投影目标投射投影光束。投影系统包括取像装置以及投影装置。取像装置可撷取含有路径目标的外观影像为影像资讯。投影装置电连接取像装置。投影装置可提供投影光束,且投影光束包括第一光束以及第二光束,其中路径目标位于第一光束的传递路径上,且第二光束投射至投影目标。投影装置可依据影像资讯调整第一光束的发光强度,以降低第一光束的发光强度。

为达上述之一或部分或全部目的或是其他目的,本发明的一实施例提出一种投影方法。该投影方法包括提供投影光束至投影目标。投影光束包括第一光束以及第二光束。该投影方法包括撷取含有路径目标的外观影像为影像资讯,且该路径目标位于该第一光束的传递路径上。该投影方法还包括依据影像资讯调整第一光束的发光强度,以降低第一光束的发光强度。

基于上述,本发明的实施例至少具有以下其中一个优点或功效。在本实施例的投影系统及投影方法中,借由取像装置撷取影像资讯,该影像资讯可为包含人、人脸、人眼等路径目标的外观影像。投影系统依据影像资讯调整所投射之至少一部分光束的发光强度,而降低投向路径目标的光束的发光强度。在此配置中,借由调整部分预备投射至投影目标的光束的发光强度,可避免光束直接照射至人、人脸、人眼或其他不适合被光照射的特定物件等路径目标,使得使用者可在进入投影区域内的情况下不被投影光束照射而分心或造成伤害。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1为本发明一实施例的投影系统示意图。

图2为本发明另一实施例的投影系统示意图。

图3为图2之实施例的投影系统在校正时的示意图。

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