[发明专利]触控结构、采用该触控结构的显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201811615628.7 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN111381700B 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 马亮 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 结构 采用 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明提供一种触控结构、采用该触控结构的显示面板及显示装置,本发明的优点在于,穿过触控结构第一区的金属走线的密度小于穿过触控结构第二区的金属走线的密度,则所述金属走线对所述第一区的遮挡减小,使得所述第一区的可见光透光率大于所述第二区的可见光透光率,则在应用所述触控结构时,可在所述第一区的对应位置设置一需要充足可见光的模块,以提高该模块的性能。

技术领域

本发明涉及触控显示领域,尤其涉及一种触控结构、采用该触控结构的显示面板及显示装置。

背景技术

随着全面屏的概念深入人心,极高的屏占比已经成为显示厂商竞相追求的目标。但是全面屏技术还面临着很多挑战。虽然屏下指纹、内置光感应及听筒技术使麦克风、听筒、距离感应器、Home键等均实现“隐藏”式设计,但是屏下摄像头技术由于Array基板、OLED膜层或显示膜层等结构极低的透光率,造成成像品质达不到用户使用需求,仍然为未攻克的难关。例如,对于OLED显示面板而言,由于光线需要穿过盖板(Cover Glass)、偏光片(POL)、触控层(Touch)、有机阵列层(ELTFE)、阵列基板(Array)中的有机层和无机层,才能到达摄像头(camera),势必会造成可见光衰减。虽然通过优化成像算法等手段可以稍微改善,但是会严重影响相机反应速率,不能满足商用需求。另外可在显示面板的显示区挖通孔使进入所述摄像头的可见光增强,但是其会在显示区域留下圆形的非显示区域,影响屏幕显示的完整性,因此,屏下摄像头技术成为全面屏设计的难点。

随着屏幕集成度的提高,in-cell触控技术逐渐成熟,进一步降低OLED显示屏幕厚度的同时,传统的触控区内的金属走线在屏下摄像头拍摄区域也带来了光线的反射、衍射,从而造成眩光等负面影响,同时也会降低光线的穿透率,综上所述,为实现真正的屏下摄像头技术,亟需一种新型的in-cell触控技术的布线设计来满足屏下摄像头的需求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,提供一种触控结构、采用该触控结构的显示面板及显示装置,其能够提高需求区域的可见光透光率。

为了解决上述问题,本发明提供了一种触控结构,包括多条金属走线及多个触控电极,所述金属走线与所述触控电极电连接,多条所述金属走线交叉设置,且彼此绝缘,所述触控结构具有至少一第一区及位于所述第一区之外的第二区,穿过所述第一区的所述金属走线的密度小于穿过所述第二区的所述金属走线的密度。

在一实施例中,至少部分所述金属走线呈弯曲状以绕过所述第一区,使得穿过所述第一区的所述金属走线的密度小于穿过所述第二区的所述金属走线的密度。

在一实施例中,至少部分所述金属走线的弯曲部分以所述第一区为中心呈对称设置。

在一实施例中,至少部分所述金属走线呈弧形状以绕过所述第一区,使得穿过所述第一区的所述金属走线的密度小于穿过所述第二区的所述金属走线的密度。

在一实施例中,全部的所述金属走线呈弯曲状以绕过所述第一区,使得穿过所述第一区的所述金属走线的密度小于穿过所述第二区的所述金属走线的密度。

为了解决上述技术问题,本发明还提供一种显示面板,包括一如上所述的触控结构,所述第一区对应所述显示面板的一功能模块区。

在一实施例中,所述显示面板包括多个发光单元,位于所述功能模块区的发光单元的密度小于位于所述功能模块区之外的区域的发光单元的密度。

在一实施例中,在所述显示面板的非出光侧,设置有一功能模块,所述功能模块对应所述功能模块区。

在一实施例中,所述功能模块为摄像头组件。

在一实施例中,所述金属走线对应所述发光单元之间的间隙设置。

为了解决上述技术问题,本发明还提供一种显示装置,其包括一如上所述的触控结构或如上所述的显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811615628.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top