[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述的化学机械抛光液包含研磨颗粒、金属缓蚀剂、络合剂、氧化剂、磷酸酯类表面活性剂和水。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述的磷酸酯类表面活性剂具有如下式(1)或式(2)或同时含有式(1)、式(2)结构的多元醇磷酸酯：

其中，X＝RO，RO-(CH₂CH₂O)_m，RCOO-(CH₂CH₂O)_n；R为C8-C22的烷基或烷基苯、甘油基(C₃H₅O₃-)，m,n＝1-30；M＝H,K,NH₄,(CH₂CH₂O)_1-3NH_3-1和/或Na。

3.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的磷酸酯类表面活性剂的质量百分比含量为0.0005％-1％。

4.根据权利要求3所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的磷酸酯类表面活性剂的质量百分比含量为0.001～0.5％。

5.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒选自二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈、掺杂铝的二氧化硅和聚合物颗粒中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的质量百分比含量为1-20％。

7.根据权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的质量百分比含量为2-15％。

8.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的粒径为20～150nm。

9.根据权利要求8所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的粒径为30～120nm。

10.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属缓蚀剂为唑类化合物。

11.根据权利要求10所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物选自苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4-三氮唑、4-氨基-1,2,4-三氮唑、5-甲基-四氮唑、5-氨基-四氮唑、5-苯基-四氮唑、巯基苯基四氮唑、苯并咪唑、萘并三唑和2-巯基-苯并噻唑中的一种或多种。

12.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属缓蚀剂的质量百分比含量为0.001～2％。

13.根据权利要求12所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述金属缓蚀剂的质量百分比含量为0.01％-1％。

14.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述的络合剂选自草酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸、酒石酸、甘氨酸、丙氨酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羟基亚乙基二膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、2-羟基膦酸基乙酸、多氨基多醚基亚甲基膦酸和二乙烯三胺五甲叉膦酸中的一种或多种。

15.根据权利要求1的所述化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂的质量百分比含量为0.01％-2％。

16.根据权利要求15所述化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂的质量百分比含量为0.05％-1％。