[发明专利]搅拌装置及含其的电镀设备在审
| 申请号： | 201811612337.2 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN110184640A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 王溯;史蒂文·贺·汪;樊芸 | 申请（专利权）人： | 新阳硅密（上海）半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/10 | 分类号： | C25D21/10;C25D17/00 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;杨东明 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 搅拌单元 旋转轴 搅拌装置 驱动机构 转动 电镀设备 中心圆周 电镀液 涡流 电镀均匀性 驱动 电镀 均布 | ||
1.一种搅拌装置，其特征在于，其包括：
至少一个搅拌单元，所述搅拌单元具有旋转轴，所述搅拌单元以所述旋转轴为中心圆周布置；
驱动机构，所述驱动机构连接于所述搅拌单元，并驱动所述搅拌单元沿对应的所述旋转轴转动。
2.如权利要求1所述的搅拌装置，其特征在于，所述搅拌单元具有通孔。
3.如权利要求2所述的搅拌装置，其特征在于，所述通孔经过所述旋转轴。
4.如权利要求3所述的搅拌装置，其特征在于，所述通孔以所述旋转轴为对称轴对称分布。
5.如权利要求2所述的搅拌装置，其特征在于，所述搅拌单元以所述旋转轴为中心圆周均匀布置。
6.如权利要求2所述的搅拌装置，其特征在于，所述搅拌单元包括：
搅拌部，所述通孔设于所述搅拌部；
连接部，所述连接部沿所述旋转轴的方向连接于所述搅拌部的一端，所述驱动机构通过所述连接部驱动所述搅拌部转动。
7.如权利要求6所述的搅拌装置，其特征在于，所述连接部为以所述旋转轴为中心的圆柱体。
8.如权利要求6所述的搅拌装置，其特征在于，所述搅拌装置还包括框架，所述框架环绕设置于多个所述搅拌单元的四周，且所述框架连接于所述驱动机构；
所述搅拌单元还包括延伸部，所述延伸部沿所述旋转轴的方向连接于搅拌部的另一端，所述延伸部旋转连接于所述框架。
9.如权利要求1所述的搅拌装置，其特征在于，多个所述搅拌单元之间沿垂直于所述旋转轴的方向平行并列设置。
10.如权利要求9所述的搅拌装置，其特征在于，所述驱动机构驱动多个所述搅拌单元同步转动。
11.如权利要求9所述的搅拌装置，其特征在于，所述搅拌装置还包括传动机构，所述驱动机构通过所述传动机构连接于多个所述搅拌单元。
12.如权利要求11所述的搅拌装置，其特征在于，所述传动机构包括：
多个蜗轮，所述蜗轮与所述搅拌单元一一对应设置，并轴接于所对应的所述搅拌单元；
蜗杆，所述蜗杆与所述驱动机构的转轴同轴连接，多个蜗轮沿所述搅拌单元的排列方向依次啮合于所述蜗杆。
13.如权利要求1-12任一项所述的搅拌装置，其特征在于，所述搅拌装置还包括控制器，所述控制器电连接于所述驱动机构，所述控制器用于控制所述驱动机构驱动所述搅拌单元在正转和反转之间切换。
14.如权利要求2-8任一项所述的搅拌装置，其特征在于，每个所述搅拌单元均具有多个通孔，所述通孔沿所述旋转轴的方向依次设置。
15.一种电镀设备，其特征在于，其包括如权利要求1-14任一项所述的搅拌装置。
16.如权利要求15所述的电镀设备，其特征在于，所述电镀设备还包括阴极板和阳极板，所述搅拌装置位于所述阴极板和所述阳极板之间，所述搅拌装置靠近所述阴极板并与所述阴极板平行。
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