[发明专利]一种微液滴阵列芯片及其制造和使用方法在审

专利信息
申请号: 201811611242.9 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109701671A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 周嘉;刘安;杜林 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 贾慧琴;张妍
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 微孔 微液滴 基底 阵列芯片 开口 外部设备 制造 基底材料 角度倾斜 气体排除 人员技术 三维形状 微孔阵列 接触角 体积小 侧壁 保证
【权利要求书】:

1.一种微液滴阵列芯片,其特征在于,该芯片包含:基底;该基底上设置有由若干微孔构成的微孔阵列,所述的微孔具有三维形状,且微孔开口渐大,微孔侧壁至少一面倾斜设置,所述的基底与液滴的接触角大于80°。

2.如权利要求1所述的微液滴阵列芯片,其特征在于,所述微孔的三维形状为梯形体、棱锥形、半球体、半椭球体、水滴状中的任意一种或几种的组合。

3.如权利要求1所述的微液滴阵列芯片,其特征在于,各微孔的体积相同或者不同。

4.如权利要求1所述的微液滴阵列芯片,其特征在于,所述微孔阵列形状选择矩形、三角形、梯形或不规则形状。

5.如权利要求1所述的微液滴阵列芯片,其特征在于,所述的基底材料与液滴的滑动角大于10°。

6.一种如权利要求1-5中任意一项所述的微液滴阵列芯片的制备方法,其特征在于,采用仿生倒模方法或光刻倒模方法制备微液滴阵列芯片。

7.如权利要求6所述的微液滴阵列芯片的制备方法,其特征在于,该光刻倒模方法包含:

步骤1,光刻加工,制备若干沟槽,形成具有沟槽阵列的模具;

步骤2,将基底材料溶液倒入模具的沟槽中,并进行加温固化,形成基底层;

步骤3,取下固化后的基底层,其具有凹槽;

步骤4,将稀释后的基底材料溶液旋涂在固化后的基底层的凹槽中;

步骤5,加温固化,形成具有若干微孔阵列的微液滴阵列芯片。

8.如权利要求6所述的微液滴阵列芯片的制备方法,其特征在于,该仿生倒模方法包含:

步骤a),取新鲜荷叶洗净、吹干;

步骤b),将荷叶固定;

步骤c),倒入基底材料溶液,并进行加温固化,形成基底层;

步骤d),取出固化后的基底层。

9.一种如权利要求1-5中任意一项所述的微液滴阵列芯片的使用方法,其特征在于,该方法包含:

S1,向微液滴阵列芯片的任意一或多微孔加入待填充溶液;

S2,在外力牵引下,待填充液体经基底流过微孔阵列,均匀分布至微液滴阵列芯片的微孔中;

S3,滴加油滴,在外力牵引下,对基底进行冲洗;

S4,采用盖玻片密封微液滴阵列芯片。

10.如权利要求9所述的微液滴阵列芯片的使用方法,其特征在于,所述的外力牵引包含机械外力、重力、离心力中的任意一种或多种的组合。

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