[发明专利]标尺及其制造方法有效
| 申请号: | 201811608112.X | 申请日: | 2018-12-27 |
| 公开(公告)号: | CN110017854B | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
| 发明(设计)人: | 青木敏彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
| 主分类号: | G01D5/26 | 分类号: | G01D5/26;G02B5/18 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 贺紫秋 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 标尺 及其 制造 方法 | ||
一种标尺,包括:基板;标尺光栅,形成在基板的一面上且具有以预定间隔设置的多个金属光栅;和无机透明构件,设置在多个金属光栅之间,其中基板的所述面的至少一个表面用金属制造,且其中标尺光栅和无机透明构件露出到大气。
技术领域
本文所述的实施例的某些方面涉及标尺和标尺的制造方法。
背景技术
公开了具有用于对入射光进行反射的标尺光栅的标尺,作为反射式光电线性标尺(photoelectric linear scale)(例如见日本专利申请公开No.2005-308718)。标尺具有相位光栅结构,其使用光栅的上部面和下部面之间的高度差。标尺光栅具有凸凹(一面凸一面凹)的形状,其相对于基部具有预定高度差。因此,在通过擦拭等去除附着到标尺的污染物时,标尺光栅会被损坏。污染物会在擦拭期间留在标尺光栅之间的凹部中。在这种情况下,测量准确性会降低。在标尺光栅具有微小尺寸时,测量准确性会显著下降。且因此,公开了一种技术,其中保护层覆盖光栅的凸凹形状(例如见日本专利申请公开No.2006-178312)。
发明内容
在设置保护层时,需要例如CMP(化学机械抛光)过程这样的过程以便使得保护层变平。在这种情况下,制造过程可以很复杂。替换地,可以通过使用有机物层作为保护层而使得保护层变平(例如,见日本专利申请公开No.2008-256655)。然而,在使用有机物时,因随时间的劣化而对有机物造成奇怪着色的影响会很大。在这种情况下,测量准确性会降低。
本发明具有的目的是提供一种标尺,其可被简单地制造且具有高测量准确性并提供标尺的制造方法。
根据本发明的一个方面,提供一种标尺,包括:基板;标尺光栅,形成在基板的一面上且具有以预定间隔设置的多个金属光栅;和无机透明构件,设置在多个金属光栅之间,其中基板的所述面的至少一个表面用金属制造,且其中标尺光栅和无机透明构件露出到大气。
根据本发明的另一方面,提供一种标尺的制造方法,包括:以预定间隔在基板的一面上形成多个光栅;和通过将作为填充液体的包含金属的液体供应到多个光栅之间,在多个光栅之间形成金属光栅,其中至少所述基板的所述面的表面用金属制造。
根据本发明的另一方面,提供一种标尺的制造方法,包括:制备基板,其中至少一面的表面被金属覆盖且多个金属光栅以预定间隔形成在该面上;和通过将用作填充液体的液体无机透明材料供应到多个光栅中,在多个光栅之间形成无机透明构件。
附图说明
图1A示出了根据第一实施例的标尺的平面图;
图1B示出了沿图1A的线A-A截取的截面视图;
图2A到图2D显示了标尺的制造方法
图3示出了使用金属纳米油墨的例子;
图4示出了拒水处理;
图5A到图5D显示了标尺的另一制造方法;
图6示出了标尺的另一制造方法;
图7示出了拒水处理;
图8A示出了根据第二实施例的标尺的平面图;和
图8B示出了沿线B-B截取的截面视图。
具体实施方式
以下是参考附图对实施例所作的描述。
[第一实施例]图1A示出了根据第一实施例的标尺100的平面图。图1B示出了沿图1A的线A-A截取的截面视图。如图1A和图1B所示,标尺100具有一结构,其中金属反射层20设置在基板10的一面(上部面)的表面上,且具有以预定间隔设置的多个金属标尺的金属标尺光栅30设置在金属反射层20上。无机透明构件40设置在通过标尺光栅30的彼此相邻的两个金属光栅形成的凹部中。即,无机透明构件40覆盖金属反射层20的上部面的露出部分。
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