[发明专利]一种全超导微波腔体滤波器及其制备方法在审
| 申请号： | 201811607777.9 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109638396A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 吕琴丽;李帅;王树茂 | 申请（专利权）人： | 有研工程技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01P1/207 | 分类号： | H01P1/207;H01P11/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 张文宝 |
| 地址： | 101400 北京市怀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 超导涂层 腔体滤波器 超导微波 滤波器 过渡层 制备 施加 滤波器结构 带外抑制 金属腔体 品质因素 体内表面 微波腔体 微波损耗 金属腔 带边 内壁 阻带 陡峭 微波 | ||
1.一种全超导微波腔体滤波器，其特征在于，包括主体，所述主体的腔体内表面有过渡层，以及施加于过渡层上的超导涂层。
2.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述的全超导微波腔体滤波器为近微波和L、S、C、X及Ku波段工作的腔体滤波器。
3.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述的全超导微波腔体滤波器能够在77K以下温度条件下工作。
4.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述的主体腔体由Fe、Cu或Ag材料制成。
5.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述的过渡层材料为CeO2或MgO，所述过渡层厚度为10～100nm。
6.如权利要求1所述的滤波器，其特征在于，所述的超导涂层为稀土钡铜氧，所述超导涂层厚度为1～10um。
7.权利要求1-6中任一项所述全超导微波腔体滤波器的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
A.采用常规金属加工技术，制备微波腔体滤波器主体，包括腔体和盖；
B.在所述腔体内表面上，采用物理或化学方法制备过渡层；
C.在上述过渡层上，采用物理或化学方法制备超导涂层；
D.将滤波器腔体和盖通过螺钉进行固定，形成全超导微波腔体滤波器。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述过渡层采用反应磁控溅射方法或离子束辅助沉积方法制备，厚度为10～100nm。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述超导涂层采用三氟乙酸盐MOD方法制备，厚度为1～10um。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述三氟乙酸盐MOD方法是以提拉涂覆的方式涂覆前驱液，经排水除胶和烧结两个步骤形成超导涂层。
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