[发明专利]喷头清洗结构及方法在审
申请号: | 201811607461.X | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN109663775A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 周世均 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B3/04;B08B13/00;G03F7/16 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷头 清洗槽 高压气体喷嘴 下止点 清洗剂 喷射高压气体 喷头清洗 上止点 玷污 高压气体 上下活动 运动过程 浸没 吹扫 止点 去除 喷射 清洗 两边 容纳 | ||
1.一种喷头清洗结构,其特征在于:
清洗槽,所述清洗槽为一容器,能容纳清洗剂;
喷头,所述喷头位于清洗槽的上方,且能上下活动,活动范围为上止点与下止点之间;
在喷头上止点与下止点之间的路径上两边,还具有高压气体喷嘴,所述高压气体喷嘴朝向喷头的运动路径,能喷射高压气体。
2.如权利要求1所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的清洗槽内盛有清洗剂,喷头在向下运动到下止点时,喷头浸没于清洗剂中。
3.如权利要求1或2所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的清洗剂为纯水。
4.如权利要求1所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的喷头在向上运动到上止点之前,到达高压气体喷嘴喷射范围时,高压气体喷嘴喷射高压气体。
5.如权利要求1或4所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的高压气体为氮气。
6.如权利要求1所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的喷头为显影液喷头,用于向晶圆喷射显影液。
7.一种喷头清洗方法,其特征在于:具有一清洗结构,所述清洗结构包含:
清洗槽,所述清洗槽为一容器,能容纳清洗剂;
喷头,所述喷头位于清洗槽的上方,且能上下活动,活动范围为上止点与下止点之间;
在喷头上止点与下止点之间的路径上两边,还具有高压气体喷嘴,所述高压气体喷嘴朝向喷头的运动路径,能喷射高压气体;
所述的喷头在运动到下止点时,喷头浸没于清洗槽内的清洗剂中进行清洗,然后再向上往上止点运动过程中,当运动到高压气体喷嘴的喷射范围时,所述高压气体喷嘴向喷头喷射高压气体。
8.如权利要求7所述的喷头清洗方法,其特征在于:所述的清洗剂为纯水。
9.如权利要求7所述的喷头清洗方法,其特征在于:所述的高压气体为氮气。
10.如权利要求7所述的喷头清洗方法,其特征在于:所述喷头能通过多次的上下运动,即经历多次的与清洗剂接触清洗及多次的高压气体喷射,直到达到理想的喷头清洗效果。
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