[发明专利]喷头清洗结构及方法在审

专利信息
申请号: 201811607461.X 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109663775A 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 周世均 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B3/04;B08B13/00;G03F7/16
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 喷头 清洗槽 高压气体喷嘴 下止点 清洗剂 喷射高压气体 喷头清洗 上止点 玷污 高压气体 上下活动 运动过程 浸没 吹扫 止点 去除 喷射 清洗 两边 容纳
【权利要求书】:

1.一种喷头清洗结构,其特征在于:

清洗槽,所述清洗槽为一容器,能容纳清洗剂;

喷头,所述喷头位于清洗槽的上方,且能上下活动,活动范围为上止点与下止点之间;

在喷头上止点与下止点之间的路径上两边,还具有高压气体喷嘴,所述高压气体喷嘴朝向喷头的运动路径,能喷射高压气体。

2.如权利要求1所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的清洗槽内盛有清洗剂,喷头在向下运动到下止点时,喷头浸没于清洗剂中。

3.如权利要求1或2所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的清洗剂为纯水。

4.如权利要求1所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的喷头在向上运动到上止点之前,到达高压气体喷嘴喷射范围时,高压气体喷嘴喷射高压气体。

5.如权利要求1或4所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的高压气体为氮气。

6.如权利要求1所述的喷头清洗结构,其特征在于:所述的喷头为显影液喷头,用于向晶圆喷射显影液。

7.一种喷头清洗方法,其特征在于:具有一清洗结构,所述清洗结构包含:

清洗槽,所述清洗槽为一容器,能容纳清洗剂;

喷头,所述喷头位于清洗槽的上方,且能上下活动,活动范围为上止点与下止点之间;

在喷头上止点与下止点之间的路径上两边,还具有高压气体喷嘴,所述高压气体喷嘴朝向喷头的运动路径,能喷射高压气体;

所述的喷头在运动到下止点时,喷头浸没于清洗槽内的清洗剂中进行清洗,然后再向上往上止点运动过程中,当运动到高压气体喷嘴的喷射范围时,所述高压气体喷嘴向喷头喷射高压气体。

8.如权利要求7所述的喷头清洗方法,其特征在于:所述的清洗剂为纯水。

9.如权利要求7所述的喷头清洗方法,其特征在于:所述的高压气体为氮气。

10.如权利要求7所述的喷头清洗方法,其特征在于:所述喷头能通过多次的上下运动,即经历多次的与清洗剂接触清洗及多次的高压气体喷射,直到达到理想的喷头清洗效果。

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