[发明专利]蓝相液晶面板的制作方法及其立体电极的制作方法

权利要求书

1.一种蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其包括以下步骤：

提供一基板；

在所述基板表面沉积多晶硅或氧化硅，以形成一层薄膜；

在所述薄膜上覆盖一层金属层；

通过电子束光刻方法，将所述金属层刻蚀成多个相间分布的辅助金属层；

将所述基板浸入刻蚀液中，以使所述薄膜被刻蚀成多个相间分布的立体基底，且每个辅助金属层掉落在相邻两个立体基底与所述薄膜形成的凹槽内；

将经过刻蚀处理后的所述基板进行清洗处理；

在所述多个立体基底表面及所述多个辅助金属层表面沉积一层连续的ITO导电层，以得到立体电极。

2.根据权利要求1所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，当所述薄膜的材料为多晶硅时，所述刻蚀液仅刻蚀位于所述辅助金属层下方的薄膜，以使所述薄膜形成多个相间分布且截面呈矩形的立体基底。

3.根据权利要求1所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，当所述薄膜的材料为氧化硅时，所述刻蚀液刻蚀位于所述辅助金属层下方及两侧的薄膜，以使所述薄膜形成多个相间分布且截面呈梯形的立体基底。

4.根据权利要求1所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，采用低压力化学气相沉积方法在所述基板表面形成所述薄膜。

5.根据权利要求1所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，所述金属层的高度小于所述薄膜的高度。

6.根据权利要求1所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，所述通过电子束光刻方法将所述金属层刻蚀成多个相间分布的辅助金属层的步骤包括：

在所述金属层上覆盖一层电子束光刻胶；

采用电子束曝光系统，对所述电子束光刻胶进行曝光；

对曝光后的所述电子束光刻胶进行显影，以形成所述辅助金属层；以及

剥离所述电子束光刻胶。

7.根据权利要求1所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，所述辅助金属层的材料为铜或银。

8.根据权利要求2所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，所述立体电极的截面形状为多个相间分布的矩形。

9.根据权利要求3所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，其特征在于，所述立体电极的截面形状为多个相间分布的梯形。

10.一种蓝相液晶面板的制作方法，其包括以下步骤：

S 1：提供上基板和下基板；

S2：采用如权利要求1至9中任意一项所述的蓝相液晶显示面板立体电极的制作方法，在所述上基板的一表面及所述下基板的一表面形成立体电极；

S3：将所述上基板和所述下基板相对设置，以使所述上基板的立体电极和所述下基板的立体电极相互面对；

S4：在所述上基板和所述下基板之间填充多个蓝相液晶分子。