[发明专利]一种荧光-磁共振双模态量子点及其制备和应用方法在审

专利信息
申请号: 201811600869.4 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109529059A 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 伍旭;熊炜;曾朝阳;李桂源;何姝仪;武迎芬 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: A61K49/12 分类号: A61K49/12;A61K49/18;A61K49/00
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 袁靖
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 量子点 共轭聚合物 碳氟化合物 制备和应用 超声水浴 磁共振 双模态 荧光 四氢呋喃溶剂 磁共振成像 靶向成像 四氢呋喃 荧光成像 灵敏度 水中 制备 加热 溶解 多样性 应用
【权利要求书】:

1.一种荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,是包裹了碳氟化合物的共轭聚合物。

2.根据权利要求1所述的荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,所述的碳氟化合物是能够用于19F磁共振检测的造影剂,所述的共轭聚合物是能够用于荧光成像检测的显影剂。

3.根据权利要求2所述的荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,所述的碳氟化合物包括:环状全氟-15-冠-5-乙醚,线性全氟聚醚,全氟辛烷,2-三氟甲基-1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,5-十一氟代戊烷,全氟萘烷中任一种或几种,所述的共轭聚合物包括:PFBT,CNPPV,MEHPPV,PFPV,PFO,PVK,PCPDTBT,PSiFDBT中的任一种或几种。

4.根据权利要求1所述的荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,共轭聚合物通过疏水作用将碳氟化合物包裹在其中。

5.根据权利要求1所述的荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,所述的荧光-磁共振双模态量子点的粒径范围10-150nm,优选20-40nm。

6.根据权利要求1所述的荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,共轭聚合物与碳氟化合物的质量比例为:1:0.05-1:30,优选1:5-1:15。

7.根据权利要求1所述的荧光-磁共振双模态量子点,其特征在于,所述的荧光-磁共振双模态量子点进行表面修饰,用于靶向识别。

8.一种荧光-磁共振双模态量子点的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将共轭聚合物和碳氟化合物溶解在能与水互溶的溶剂中,溶剂优选:四氢呋喃或DMSO或者DMF,进一步优选四氢呋喃;

(2)在超声水浴中将该溶液快速注入水中,并保持超声水浴中至少1min;

(3)所得溶液在搅拌或加热后除去溶剂,即获得包裹了碳氟化合物的共轭聚合物量子点。

9.根据权利要求8所述的荧光-磁共振双模态量子点的制备方法,其特征在于,步骤(1)将质量比为1:0.05-1:30的共轭聚合物和碳氟化合物溶解在溶剂中,共轭聚合物在溶剂中的浓度控制在10-100ppm之间;

步骤(2)在超声水浴中将该溶液快速注入水中并保持在超声水浴中至少1min,溶剂与水的体积比例控制在1:1-1:20之间;

步骤(3)所得溶液在搅拌或加热后除去溶剂,即获得包裹了碳氟化合物的共轭聚合物量子点。

10.权利要求1-7任一项所述的荧光-磁共振双模态量子点的应用方法,其特征在于,作为荧光成像的显影剂和/或核磁共振的造影剂。

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