[发明专利]一种钛电极及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种钛电极，其特征在于，所述钛电极包括钛基体、银中间层以及铋钛锡活性层；所述银中间层设置于所述钛基体的表面，所述铋钛锡活性层设置于所述银中间层的远离所述钛基体的一侧的表面；

所述银中间层的厚度为1-10⁶nm；所述银中间层与所述铋钛锡活性层的总厚度不超过10μm；

所述铋钛锡活性层中的铋、钛及锡的摩尔比为1-10：20-50：70-100；

所述银中间层的制备包括：采用磁控溅射法、电镀法、蒸发镀膜法或化学气相沉积法于所述钛基体的表面覆盖银以形成所述银中间层；

所述铋钛锡活性层的制备包括：将含有铋、钛和锡的前驱液覆盖于所述银中间层的远离所述钛基体的一侧的表面以形成所述铋钛锡活性层；覆盖方法包括涂刷法、滴涂法、浸渍提拉法、旋涂法、电沉积法、磁控溅射法或蒸镀法。

2.根据权利要求1所述的钛电极，其特征在于，所述钛基体包括钛板、钛网或钛棒。

3.如权利要求1或2所述的钛电极的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：于所述钛基体的表面制备所述银中间层，于所述银中间层的远离所述钛基体的一侧的表面设置所述铋钛锡活性层，随后进行退火处理。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述银中间层的制备包括：采用磁控溅射法、电镀法、蒸发镀膜法或化学气相沉积法于所述钛基体的表面覆盖银以形成所述银中间层。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铋钛锡活性层的制备包括：将含有铋、钛和锡的前驱液覆盖于所述银中间层的远离所述钛基体的一侧的表面以形成所述铋钛锡活性层；覆盖方法包括涂刷法、滴涂法、浸渍提拉法、旋涂法、电沉积法、磁控溅射法或蒸镀法。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述前驱液由BiCl₃、SnCl₂·2H₂O以及钛酸丁酯在无水乙醇为溶剂的条件下混合而成。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，退火处理于450-600℃的条件下进行。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在设置所述银中间层之前，还包括对所述钛基体进行预处理；

预处理包括：对所述钛基体进行打磨或喷砂处理、碱洗以及酸洗。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，碱洗是于80-95℃的条件下在浓度为20-40wt％的NaOH溶液中加热1-3h；或，碱洗是于丙酮溶液中超声清洗10-30min。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，酸洗是于80-95℃的条件下在浓度为10-40wt％的草酸或45-55vol％的盐酸溶液中加热1-3h。

11.一种如权利要求1或2所述的钛电极的应用，其特征在于，所述钛电极用于废水处理。