[发明专利]一种光配向处理方法、光配向掩模板及光配向掩模板组

权利要求书

1.一种光配向处理方法，其特征在于，包括：

在玻璃基板母板表面形成配向膜层；

将包含不同配向方向要求的多模型组产品排列在所述玻璃基板母板上；

分别将设置了不同漏光区域和遮光区域的光配向掩膜板覆盖在所述多模型组产品上之后，进行光配向照射。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在玻璃基板母板表面形成配向膜层，包括：

在玻璃基板母板表面形成聚酰亚胺配向膜层。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分别将设置了不同漏光区域和遮光区域的光配向掩膜板覆盖在所述多模型组产品上之后，进行光配向照射，包括：

依次切换设置了不同漏光区域和遮光区域的光配向掩膜板覆盖在所述多模型组产品上，进行光配向照射。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述依次切换设置了不同漏光区域和遮光区域的光配向掩膜板覆盖在所述多模型组产品上，进行光配向照射，包括：

将其中一张光配向掩膜板覆盖在所述多模型组产品上，其中所述光配向掩膜板中设置的漏光区域对应所述多模型组产品中的其中一配向产品，设置的遮光区域对应所述一配向产品之外的其他不同配向方向的配向产品；

在对所述其中一配向产品进行光配向照射完成配向后，切换另一张光配向掩膜板覆盖在所述多模型组产品上，再进行光配向照射，直至所述多模型组产品中的所有配向产品完成配向，其中所述另一张光配向掩膜板设置的漏光区域和遮光区域与上一张光配向掩膜板不同。

5.根据权利要求1至4任一项所述的方法，其特征在于：

所述光配向掩膜板为紫外线类型的掩模板。

6.根据权利要求1至4任一项所述的方法，其特征在于：

所述光配向掩膜板中设置的漏光区域的形状区域大于或等于对应的配向产品的形状区域。

7.一种光配向掩膜板，其特征在于：

所述光配向掩膜板设置了漏光区域和遮光区域；

所述光配向掩膜板用于覆盖在包含不同配向方向要求的多模型组产品上，其中所述多模型组产品排列在所述玻璃基板母板上，所述玻璃基板母板表面形成有配向膜层；

所述光配向掩膜板中设置的所述漏光区域对应所述多模型组产品中的其中一配向产品，所述遮光区域对应所述一配向产品之外的其他不同配向方向的配向产品。

8.一种光配向掩膜板组，其特征在于：

包括至少两个以上光配向掩膜板，其中每个光配向掩膜板设置了不同的漏光区域和遮光区域；

所述设置了不同漏光区域和遮光区域的不同光配向掩膜板，被分别覆盖在包含不同配向方向要求的多模型组产品上之后再进行光配向照射，其中所述多模型组产品排列在所述玻璃基板母板上，所述玻璃基板母板表面形成有配向膜层；

其中，所述光配向掩膜板中设置的所述漏光区域对应所述多模型组产品中的其中一配向产品，所述遮光区域对应所述一配向产品之外的其他不同配向方向的配向产品。

9.根据权利要求8所述的光配向掩膜板组，其特征在于：

所述光配向掩膜板为紫外线类型的掩模板。

10.根据权利要求8或9所述的光配向掩膜板组，其特征在于：

所述光配向掩膜板中设置的漏光区域的形状区域大于或等于对应的配向产品的形状区域。