[发明专利]一种基于扩展式磁流变抛光的励磁装置有效

专利信息
申请号: 201811567497.X 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN109500662B 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 石峰;张万里;戴一帆;胡皓;宋辞;钟曜宇 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 43225 长沙国科天河知识产权代理有限公司 代理人: 邱轶<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 410073湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 励磁装置 柔性抛光 缎带 工件表面 磁极组 磁流变抛光 永磁体磁极 导磁片 扩展式 抛光 磁场区域 磁流变液 弹性接触 二次损伤 工作效率 可扩展性 梯度磁场 连接柱 抛光端 叠置 磁场 加工
【说明书】:

发明公开一种基于扩展式磁流变抛光的励磁装置。所述励磁装置主要包括至少两个磁极组和一片导磁片(3),所述磁极组包括两片在水平方向上叠置的永磁体磁极(1)和位于两所述永磁体磁极(1)之间的连接柱(2),所述两磁极组通过导磁片(3)连接,所述励磁装置抛光端形成高强度的梯度磁场,当磁流变液流经该磁场区域会形成“柔性抛光缎带”,用该“柔性抛光缎带”对工件表面进行抛光。与现有技术相比,本发明励磁装置由于磁场的可扩展性,在小范围内可形成多条“柔性抛光缎带”,增大抛光面积,提高工作效率;同时,“柔性抛光缎带”硬度低,与工件表面弹性接触,在加工过程中不会对工件造成二次损伤,可实现工件表面的高精度、高质量加工。

技术领域

本发明涉及机械加工及理论仿真技术领域,尤其是一种基于扩展式磁流变抛光的励磁装置。

背景技术

随着科学技术的发展,现代光学系统对光学零件的表面形状精度、表面粗糙度以及亚表面损伤程度的要求越来越高,这对光学制造技术不断提出新的挑战。

传统加工方法加工周期长、加工效率低,而且无法有效控制损伤。特别是针对大口径光学元件,传统加工由于自身工艺方法的限制,无法很好的应用到其加工过程中来。

针对传统加工方法存在的缺点,出现了包括CCOS(计算机控制光学表面成型)、离子束抛光、弹性发射抛光、磁流变抛光等在内的多种抛光技术。这些技术在满足光学元件低损伤制造要求的同时,能够最大限度的实现面形的高精度加工,但是在加工过程中,还是存在工艺反复迭代,加工周期长等不可避免的问题,这就给大口径光学元件的高精度、低缺陷、高效率加工提出了新的要求。

发明内容

本发明提供一种基于扩展式磁流变抛光的励磁装置,用于克服现有技术中加工周期长、加工效率低,而且无法有效控制损伤等缺陷,实现高效工作,且能实现对元件表面的高精度、高质量加工。

为实现上述目的,本发明提出一种基于扩展式磁流变抛光的励磁装置,所述励磁装置主要包括至少两个磁极组和一片导磁片3,所述磁极组包括两片在水平方向上叠置的永磁体磁极1和位于两所述永磁体磁极1之间的连接柱2;所述永磁体磁极1竖直方向上端与所述连接柱2通过连接件固定连接;

所述连接柱2竖直方向下端位于两片所述永磁体磁极1内,并与两片所述永磁体磁极1共同围设成一个开口的空腔;所述空腔开口为所述永磁体磁极组内两永磁体磁极1竖直方向下端圆弧最低点水平方向间隙,在9~10mm之间;

所述永磁体磁极1竖直方向下端呈圆弧形,所述永磁体磁极1近空腔内侧的倾斜边沿与竖直方向呈14~16度倾斜,所述倾斜边沿在与竖直方向呈14~16度倾斜方向上的长度在34~36mm之间;所述永磁体磁极1的纵向宽度在145~150mm之间;

相邻两所述磁极组在水平方向上叠置且两磁极组之间通过导磁片3连接,所述两磁极组与所述导磁片3通过连接件固定连接;所述导磁片3水平厚度在8~12mm之间。

与现有技术相比,本发明的有益效果有:

1、本发明的励磁装置,主要包括磁极组和导磁片3,所述磁极组包括两片在水平方向上叠置的永磁体磁极1和位于两所述永磁体磁极1之间的连接柱2,该装置整体结构简单;所述励磁装置竖直方向下端会形成高强度的梯度磁场,该磁场强度和形状有利于“柔性抛光缎带”的形成,该“柔性抛光缎带”的硬度低,用该“柔性抛光缎带”对工件表面进行抛光不会对工件形成二次损伤,可实现工件表面的高精度、高质量加工;再次,所述励磁装置的连接和分布有利于磁流变缎带的扩展,显著提高了磁流变抛光过程中的加工效率;此外,整个装置对环境要求不高,整个工艺过程易于实现。

2、本发明的励磁装置包括至少两个磁极组,所述磁极组的数量可根据需求增加,因此能够满足多种不同的需求,大大拓展了本发明励磁装置的使用范围。

附图说明

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