[发明专利]全尺寸掩模组件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811561908.4 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN110551972A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 金正镐 申请(专利权)人: KPS株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 韩国京畿道华*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 辅助掩模 开口部 支撑 掩模组件 沉积图案 单元单位 格子形态 掩模 栅条 沉积 包围
【权利要求书】:

1.一种全尺寸掩模组件,其特征在于,包括:

框架,其形成有框架开口部且具有包围上述框架开口部的支撑部;

结构用辅助掩模,其由上述支撑部所支撑,且具有形成格子形态的多个栅条以形成多个结构用辅助掩模开口部;以及,

多个单元单位掩模,其由上述结构用辅助掩模所支撑且具备使沉积物质通过的沉积图案部,

各个上述单元单位掩模单独地与上述结构用辅助掩模配合。

2.根据权利要求1所述的全尺寸掩模组件,其特征在于,

上述单元单位掩模在其一个面进一步包括两个以上的单元单位配合部。

3.根据权利要求2所述的全尺寸掩模组件,其特征在于,

上述单元单位配合部是并排配置的多个焊接点。

4.根据权利要求2所述的全尺寸掩模组件,其特征在于,

上述单元单位配合部是沿着端部形成的第一方向的第一单元单位配合部或与上述第一方向正交的第二方向的第二单元单位配合部中一个单元单位配合部。

5.根据权利要求2所述的全尺寸掩模组件,其特征在于,

上述单元单位配合部包括沿着端部形成的第一方向的第一单元单位配合部和与上述第一方向正交的第二方向的第二单元单位配合部。

6.一种全尺寸掩模组件,其具有由形成格子形态的多个栅条构成以形成多个结构用辅助掩模开口部的结构用辅助掩模,所述全尺寸掩模组件的特征在于,

包括多个单元单位掩模,上述多个单元单位掩模在与上述结构用辅助掩模开口部相对的位置具备沉积图案部且由上述结构用辅助掩模所支撑,

各个上述单元单位掩模单独地与上述结构用辅助掩模配合。

7.根据权利要求6所述的全尺寸掩模组件,其特征在于,

上述栅条包括:

第一单元单位支撑部,其在第一方向上支撑上述单元单位掩模;

第二单元单位支撑部,其在与上述第一方向正交的第二方向上支撑上述单元单位掩模;以及,

单元单位间隔部,其处于以规定间距位于上述第一单元单位支撑部与上述第二单元单位支撑部之间的状态,并具有格子形状,且不支撑上述单元单位掩模。

8.根据权利要求7所述的全尺寸掩模组件,其特征在于,

在第一方向和与上述第一方向正交的第二方向上彼此断续地设有多个上述单元单位掩模。

9.一种全尺寸掩模组件制造方法,其使各个单元单位掩模与形成于结构用辅助掩模的结构用辅助掩模开口部相对而设置,所述全尺寸掩模组件制造方法的特征在于,包括:

使上述结构用辅助掩模与形成于框架的框架开口部相对而进行对准的结构用辅助掩模对准步骤;

在第一方向和第二方向上拉伸上述结构用辅助掩模的结构用辅助掩模拉伸步骤;

在上述框架与上述结构用辅助掩模之间形成焊接部而将上述结构用辅助掩模固定在上述框架的结构用辅助掩模固定步骤;

使上述单元单位掩模与上述结构用辅助掩模的结构用辅助掩模开口部相对而进行对准的单元单位掩模对准步骤;以及,

在上述结构用辅助掩模与上述单元单位掩模之间形成单元单位配合部而将上述单元单位掩模固定在上述结构用辅助掩模的单元单位掩模固定步骤。

10.根据权利要求9所述的全尺寸掩模组件制造方法,其特征在于,

上述单元单位掩模对准步骤进一步包括:

单元掩模夹具在第一方向和第二方向上对上述单元单位掩模施加拉力的单元单位掩模拉伸步骤;

使位于沉积物质所通过的沉积图案部中某一侧棱边的第一位置对准孔在竖直方向上对准上述结构用辅助掩模开口部内的单元单位掩模第一位置对准步骤;

使上述沉积图案部中的多个第二位置对准孔在竖直方向上对准TFT玻璃的TFT位置的单元单位掩模第二位置对准步骤;以及,

在上述结构用辅助掩模开口部安装上述单元单位掩模的单元单位掩模安装步骤。

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