[发明专利]处理三维绕障井的双二维轨迹优化方法

权利要求书

1.一种处理三维绕障井的双二维轨迹优化方法，其特征在于包括以下步骤：

第一步，根据三维绕障井的井口坐标、目标靶点坐标、地面海拔、补心高、磁偏角、收敛角，确定三维绕障井的设计投影图，提取三维绕障井的井眼曲率和井眼扭方位的方位角；

第二步，对需要将三维绕障井钻进轨迹转换为双二维钻进轨迹的定向井进行优化，判断定向井是否执行将三维绕障井钻进轨迹转换为双二维钻进轨迹的优化过程，判断条件如下：

(1)三维绕障井的井眼曲率是否大于限定门限值Kmax；

(2)井眼扭方位的方位角是否大于工具可实现的定向增斜最大扭方位角φmax；

若同时满足井眼曲率大于设定门限值且井眼扭方位的方位角大于最大扭方位角，则将三维绕障井钻进轨迹转换为双二维钻进轨迹，并进入第三步，若不满足，则结束；

第三步，选择二维轨迹定向段的造斜点位置，根据采用钻具的组合造斜能力，确定第一直井段最大井斜角和第一增斜段段长，计算第一定向段的井眼曲率，公式如下：

其中，Q为井段最大井斜角，L为增斜段段长；

第四步，计算二维轨迹第一定向段的井深，确定第一稳斜段的段长，计算第一段二维轨迹投影曲线；

第五步，设置第一稳斜段的终点即为第二增斜段的起点，计算着陆前的第二段二维轨迹投影曲线，包括以下过程：

(1)根据采用的钻具组合造斜能力，确定第二定向段最大井斜角和第二增斜段段长，计算第二定向段的井眼曲率；

(2)计算二维轨迹第二定向段的井深，确定第二稳斜段的段长，计算第二段二维轨迹投影曲线。